Accéder au contenu
Merck
Toutes les photos(2)

Key Documents

669016

Sigma-Aldrich

Tetrakis(dimethylamido)zirconium(IV)

packaged for use in deposition systems

Synonyme(s) :

TDMAZ, Tetrakis(dimethylamino)zirconium(IV)

Se connecterpour consulter vos tarifs contractuels et ceux de votre entreprise/organisme


About This Item

Formule linéaire :
[(CH3)2N]4Zr
Numéro CAS:
Poids moléculaire :
267.53
Numéro MDL:
Code UNSPSC :
12352103
ID de substance PubChem :
Nomenclature NACRES :
NA.23

Niveau de qualité

Pureté

≥99.99% (trace metals analysis)

Forme

solid

Pertinence de la réaction

core: zirconium

Pf

57-60 °C (lit.)

Chaîne SMILES 

CN(C)[Zr](N(C)C)(N(C)C)N(C)C

InChI

1S/4C2H6N.Zr/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4

Clé InChI

DWCMDRNGBIZOQL-UHFFFAOYSA-N

Vous recherchez des produits similaires ? Visite Guide de comparaison des produits

Description générale

Atomic number of base material: 40 Zirconium

Pictogrammes

FlameExclamation mark

Mention d'avertissement

Danger

Mentions de danger

Classification des risques

Eye Irrit. 2 - Flam. Sol. 1 - Skin Irrit. 2 - STOT SE 3 - Water-react 2

Organes cibles

Respiratory system

Risques supp

Code de la classe de stockage

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3

Point d'éclair (°F)

No data available

Point d'éclair (°C)

No data available

Équipement de protection individuelle

Eyeshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges


Faites votre choix parmi les versions les plus récentes :

Certificats d'analyse (COA)

Lot/Batch Number

Vous ne trouvez pas la bonne version ?

Si vous avez besoin d'une version particulière, vous pouvez rechercher un certificat spécifique par le numéro de lot.

Déjà en possession de ce produit ?

Retrouvez la documentation relative aux produits que vous avez récemment achetés dans la Bibliothèque de documents.

Consulter la Bibliothèque de documents

Articles

Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.

Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.

Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.

Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.

Afficher tout

Notre équipe de scientifiques dispose d'une expérience dans tous les secteurs de la recherche, notamment en sciences de la vie, science des matériaux, synthèse chimique, chromatographie, analyse et dans de nombreux autres domaines..

Contacter notre Service technique