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Merck

345156

Sigma-Aldrich

Siliciumtetraacetat

98%

Synonym(e):

Tetraacetoxysilane

Anmeldenzur Ansicht organisationsspezifischer und vertraglich vereinbarter Preise


About This Item

Lineare Formel:
Si(OCOCH3)4
CAS-Nummer:
Molekulargewicht:
264.26
Beilstein:
994868
EG-Nummer:
MDL-Nummer:
UNSPSC-Code:
12352100
PubChem Substanz-ID:
NACRES:
NA.22

Dampfdichte

>1 (vs air)

Assay

98%

bp

148 °C/5 mmHg (lit.)

mp (Schmelzpunkt)

111-115 °C (lit.)

Lagertemp.

−20°C

SMILES String

CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O

InChI

1S/C8H12O8Si/c1-5(9)13-17(14-6(2)10,15-7(3)11)16-8(4)12/h1-4H3

InChIKey

YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N

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Allgemeine Beschreibung

Silicon tetraacetate is an alternative to silicon hydride and alkoxide for low-temperature SiO2 production. Silicon tetraacetate reacts with ethanol in absence of water to form silica gel and ethyl acetate. Silicon tetraacetate is reported as a sol-gel precursor.

Anwendung

Silicon tetraacetate may be used in the preparation of silicon dioxide thin films by a direct photochemical vapor deposition method. It may be used as starting material in the synthesis of silicon complexes with monofunctional bidentate Schiff bases.

Piktogramme

Corrosion

Signalwort

Danger

H-Sätze

Gefahreneinstufungen

Skin Corr. 1B

Lagerklassenschlüssel

8A - Combustible corrosive hazardous materials

WGK

WGK 3

Flammpunkt (°F)

Not applicable

Flammpunkt (°C)

Not applicable

Persönliche Schutzausrüstung

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges


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Synthesis of some ketimine derivatives of silicon (IV).
Singh RV and Tandon JP.
J. Prakt. Chem., 321(1), 151-158 (1979)
Silicon dioxide thin films prepared by chemical vapor deposition from silicon tetraacetate.
Maruyama T and Shionoya J.
Jpn J. App. Phys., Part I, 28(12A), L2253-L2253 (1989)
Silicon tetraacetate as a sol-gel precursor.
Coltrain BK, et al.
Journal of Sol-Gel Science and Technology, 3(2), 83-90 (1994)

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