Přejít k obsahu
Merck
Všechny fotografie(1)

Key Documents

View All Documentation

38385

Sigma-Aldrich

Dichlorodiisopropylsilane

≥97.0% (GC)

Synonyma:

Diisopropyldichlorosilane

Přihlásitk zobrazení cen stanovených pro organizaci a smluvních cen
Všechny fotografie(1)

About This Item

Empirický vzorec (Hillův zápis):
C6H14Cl2Si
Číslo CAS:
7751-38-4
Molekulová hmotnost:
185.17
Beilstein/REAXYS Number:
1736244
MDL number:
MFCD00054895
UNSPSC Code:
12352001
PubChem Substance ID:
329755681
NACRES:
NA.22

assay

≥97.0% (GC)

form

liquid

refractive index

n20/D 1.444

bp

66 °C/27 mmHg (lit.)

density

1.026 g/mL at 20 °C (lit.)

SMILES string

CC(C)[Si](Cl)(Cl)C(C)C

InChI

1S/C6H14Cl2Si/c1-5(2)9(7,8)6(3)4/h5-6H,1-4H3

InChI key

GSENNYNYEKCQGA-UHFFFAOYSA-N

Související kategorie

Other Notes

Protecting group reagent; brings two alcohols in close contact for "tethering technique"

pictograms

FlameCorrosion
GHS02,GHS05

signalword

Danger

hcodes

H226,H314

Hazard Classifications

Flam. Liq. 3 - Skin Corr. 1B

Storage Class

3 - Flammable liquids

wgk_germany

WGK 3

flash_point_f

109.4 °F - closed cup

flash_point_c

43 °C - closed cup

ppe

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

Osvědčení o analýze (COA)

Vyhledejte osvědčení Osvědčení o analýze (COA) zadáním čísla šarže/dávky těchto produktů. Čísla šarže a dávky lze nalézt na štítku produktu za slovy „Lot“ nebo „Batch“.

Již tento produkt vlastníte?

Dokumenty související s produkty, které jste v minulosti zakoupili, byly za účelem usnadnění shromážděny ve vaší Knihovně dokumentů.

Navštívit knihovnu dokumentů

Zákazníci si také prohlíželi

Slide 1 of 5

1 of 5

Dichlorodiphenylsilane ≥95%

Sigma-Aldrich

440124

Dichlorodiphenylsilane

1,1-Dichlorosilacyclobutane 97%

Sigma-Aldrich

411094

1,1-Dichlorosilacyclobutane

Di-tert-butylsilane 97%

Sigma-Aldrich

545236

Di-tert-butylsilane

Chlorodiphenylsilane technical grade, 90%

Sigma-Aldrich

673935

Chlorodiphenylsilane

Triisopropylsilyl chloride 97%

Sigma-Aldrich

241725

Triisopropylsilyl chloride

J.H. Hutchinson et al.
Tetrahedron Letters, 32, 573-573 (1991)
C.L. Bradford et al.
Tetrahedron Letters, 36, 4189-4189 (1995)
David Gräfe et al.
Nature communications, 9(1), 2788-2788 (2018-07-19)
Existing photoresists for 3D laser lithography that can be removed after development in a subtractive manner typically suffer from harsh cleavage conditions. Here, we report chemoselectively cleavable photoresists for 3D laser lithography based on silane crosslinkers, allowing the targeted degradation

Náš tým vědeckých pracovníků má zkušenosti ve všech oblastech výzkumu, včetně přírodních věd, materiálových věd, chemické syntézy, chromatografie, analytiky a mnoha dalších..

Obraťte se na technický servis.