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Merck

339113

Sigma-Aldrich

Tantal(V)-ethoxid

Tantalum(V) ethoxide

99.98% trace metals basis

Synonym(e):

Pentaethoxytantal, Pentaethyltantalat, Tantal(V)-ethoxid, Tantalpentaethoxid, Tantalumethylat

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About This Item

Lineare Formel:
Ta(OC2H5)5
CAS-Nummer:
Molekulargewicht:
406.25
Beilstein:
3678999
MDL-Nummer:
UNSPSC-Code:
12352103
PubChem Substanz-ID:
NACRES:
NA.23

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Qualitätsniveau

Assay

99.98% trace metals basis

Form

liquid

Eignung der Reaktion

core: tantalum
reagent type: catalyst

Verunreinigungen

<2 wt. % toluene

Brechungsindex

n20/D 1.487 (lit.)

bp

155 °C/0.01 mmHg (lit.)

mp (Schmelzpunkt)

21 °C (lit.)

Dichte

1.566 g/mL at 25 °C (lit.)

SMILES String

CCO[Ta](OCC)(OCC)(OCC)OCC

InChI

1S/5C2H5O.Ta/c5*1-2-3;/h5*2H2,1H3;/q5*-1;+5

InChIKey

HSXKFDGTKKAEHL-UHFFFAOYSA-N

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Allgemeine Beschreibung

Tantal(V)-ethoxid Ta(OC2H5)5 ist ein Tantalalkoxid, das als Vorläufer bei der Herstellung von Tantaloxid mittels chemischer Dampfabscheidung (CVD) eingesetzt werden kann. Es weist eine ausgezeichnete Volatilität und thermische Stabilität auf. Es kann durch die anodische Oxidation einer Tantalplatte in wasserfreiem Ethanol synthetisiert werden.[1]

Anwendung

Ta(OC2H5)5 kann zur Bildung von ultradünnen Kondensatoren auf Tantaloxidbasis eingesetzt werden.[2][3] Es kann als flüssiger Vorläufer bei der Herstellung von Tantalcarbidnanopulver für Hartbeschichtungen auf Metalloberflächen eingesetzt werden.[4]

Piktogramme

Flame

Signalwort

Warning

H-Sätze

Gefahreneinstufungen

Flam. Liq. 3

Lagerklassenschlüssel

3 - Flammable liquids

WGK

WGK 1

Flammpunkt (°F)

84.2 °F - closed cup

Flammpunkt (°C)

29 °C - closed cup

Persönliche Schutzausrüstung

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter


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Science and Technology of Advanced Materials, 6(2), 111-111 (2005)
Ultrathin tantalum oxide capacitor dielectric layers fabricated using rapid thermal nitridation prior to low pressure chemical vapor deposition
Kamiyama S, et al.
Journal of the Electrochemical Society, 140(6), 1617-1625 (1993)
Leakage currents in amorphous Ta 2 O 5 thin films
Chiu F, et al.
Journal of Applied Physics, 81(10), 6911-6915 (1997)
The Electrosynthesis of Tantalum Ethoxide
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Electrochemistry, 82(9), 743-748 (2014)
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