Accéder au contenu
Merck
Toutes les photos(1)

Documents

698431

Sigma-Aldrich

Tetrakis(dimethylamido)tin (IV)

99.9% trace metals basis

Synonyme(s) :

Tin (IV) dimethylamide

Se connecterpour consulter vos tarifs contractuels et ceux de votre entreprise/organisme
Toutes les photos(1)

About This Item

Formule linéaire :
[(CH3)2N]4Sn
Numéro CAS:
1066-77-9
Poids moléculaire :
295.01
Numéro MDL:
MFCD00014860
Code UNSPSC :
12352103
ID de substance PubChem :
329761254
Nomenclature NACRES :
NA.23

Niveau de qualité

100

Pureté

99.9% trace metals basis

Forme

liquid

Pertinence de la réaction

core: tin

Chaîne SMILES 

CN(C)[Sn](N(C)C)(N(C)C)N(C)C

InChI

1S/4C2H6N.Sn/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4

Clé InChI

WHXTVQNIFGXMSB-UHFFFAOYSA-N

Vous recherchez des produits similaires ? Visite Guide de comparaison des produits

Description générale

Atomic number of base material: 50 Tin

Pictogrammes

FlameCorrosionExclamation mark
GHS02,GHS05,GHS07

Mention d'avertissement

Danger

Classification des risques

Acute Tox. 4 Oral - Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1B

Code de la classe de stockage

3 - Flammable liquids

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3

Point d'éclair (°F)

18.0 °F - closed cup

Point d'éclair (°C)

-7.8 °C - closed cup

Équipement de protection individuelle

Faceshields, Gloves, Goggles

Certificats d'analyse (COA)

Recherchez un Certificats d'analyse (COA) en saisissant le numéro de lot du produit. Les numéros de lot figurent sur l'étiquette du produit après les mots "Lot" ou "Batch".

Déjà en possession de ce produit ?

Retrouvez la documentation relative aux produits que vous avez récemment achetés dans la Bibliothèque de documents.

Consulter la Bibliothèque de documents

Les clients ont également consulté

Slide 1 of 1

1 of 1

Tetravinyltin 97%

Sigma-Aldrich

328669

Tetravinyltin

Sarai García-García et al.
Chemical science, 10(7), 2171-2178 (2019-03-19)
Atomic layer deposition is a chemical deposition technology that provides ultimate control over the conformality of films and their thickness, even down to Ångström-scale precision. Based on the marked superficial character and gas phase process of the technique, metal sources
Yasemin Saygili et al.
Chemphyschem : a European journal of chemical physics and physical chemistry, 19(11), 1363-1370 (2018-04-27)
In perovskite solar cells (PSCs), the most commonly used hole transport material (HTM) is spiro-OMeTAD, which is typically doped by metalorganic complexes, for example, based on Co, to improve charge transport properties and thereby enhance the photovoltaic performance of the
Hao-Cheng Yang et al.
ACS nano, 12(8), 8678-8685 (2018-08-15)
Crude oil fouling on membrane surfaces is a persistent, crippling challenge in oil spill remediation and oilfield wastewater treatment. In this research, we present how a nanosized oxide coating can profoundly affect the anti-crude-oil property of membrane materials. Select oxide
Benjamin Lamm et al.
ChemSusChem, 12(9), 1916-1924 (2018-12-21)
Bismuth vanadate (BiVO4 ) is promising for solar-assisted water splitting. The performance of BiVO4 is limited by charge separation for >70 nm films or by light harvesting for <700 nm films. To resolve this mismatch, host-guest architectures use thin film coatings on
Jixian Xu et al.
Science (New York, N.Y.), 367(6482), 1097-1104 (2020-03-07)
Wide-band gap metal halide perovskites are promising semiconductors to pair with silicon in tandem solar cells to pursue the goal of achieving power conversion efficiency (PCE) greater than 30% at low cost. However, wide-band gap perovskite solar cells have been

Articles

High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication

Thin film photovoltaic devices have become increasingly important in efficiently harnessing solar energy to meet consumer demand.

Notre équipe de scientifiques dispose d'une expérience dans tous les secteurs de la recherche, notamment en sciences de la vie, science des matériaux, synthèse chimique, chromatographie, analyse et dans de nombreux autres domaines..

Contacter notre Service technique