Accéder au contenu
MilliporeSigma
Toutes les photos(2)

Documents

668729

Sigma-Aldrich

Diethylzinc

packaged for use in deposition systems

Synonyme(s) :

DEZn, Et2Zn, DEZ, Zincdiethyl

Se connecterpour consulter vos tarifs contractuels et ceux de votre entreprise/organisme
Toutes les photos(2)

About This Item

Formule linéaire :
(C2H5)2Zn
Numéro CAS:
557-20-0
Poids moléculaire :
123.51
Numéro Beilstein :
3587207
Numéro CE :
209-161-3
Numéro MDL:
MFCD00009021
Code UNSPSC :
12352103
ID de substance PubChem :
24885000
Nomenclature NACRES :
NA.23

Forme

liquid

Indice de réfraction

n20/D 1.498 (lit.)

Point d'ébullition

117 °C (lit.)

Pf

−28 °C (lit.)

Densité

1.205 g/mL at 25 °C (lit.)

Chaîne SMILES 

CC[Zn]CC

InChI

1S/2C2H5.Zn/c2*1-2;/h2*1H2,2H3;

Clé InChI

HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N

Vous recherchez des produits similaires ? Visite Guide de comparaison des produits

Catégories apparentées

Description générale

Atomic number of base material: 30 Zinc

Application

Precursors Packaged for Depositions Systems
Reacted with water in a low temperature (<200°C) atomic layer deposition of polycrystalline ZnO layers displaying exciton photoluminescence at room temperature.

Pictogrammes

FlameCorrosionEnvironment
GHS02,GHS05,GHS09

Mention d'avertissement

Danger

Mentions de danger

H250,H260,H314,H410

Classification des risques

Aquatic Acute 1 - Aquatic Chronic 1 - Eye Dam. 1 - Pyr. Liq. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 1

Risques supp

EUH014

Code de la classe de stockage

4.2 - Pyrophoric and self-heating hazardous materials

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3

Point d'éclair (°F)

Not applicable

Point d'éclair (°C)

Not applicable

Équipement de protection individuelle

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

Certificats d'analyse (COA)

Recherchez un Certificats d'analyse (COA) en saisissant le numéro de lot du produit. Les numéros de lot figurent sur l'étiquette du produit après les mots "Lot" ou "Batch".

Déjà en possession de ce produit ?

Retrouvez la documentation relative aux produits que vous avez récemment achetés dans la Bibliothèque de documents.

Consulter la Bibliothèque de documents

Les clients ont également consulté

Slide 1 of 2

1 of 2

Titanium(IV) chloride &#8805;99.995% trace metals basis

Sigma-Aldrich

254312

Titanium(IV) chloride

Bis(cyclopentadienyl)nickel(II)

Sigma-Aldrich

N7524

Bis(cyclopentadienyl)nickel(II)

Journal of Applied Physics, 103, 033515-033515 (2008)
Isabelle Bonnaventure et al.
The Journal of organic chemistry, 73(16), 6330-6340 (2008-07-22)
The hemilabile ligand Me-DuPHOS(O) 2 has proven to be a successful ligand for the copper-catalyzed addition of diethylzinc to N-phosphinoylimines. The corresponding alpha-chiral amines were obtained in high yields (80-98%) and enantiomeric ratios (19.0:1 to 99.0:1 er). Furthermore, this Cu*
Weimin Lin et al.
The Journal of organic chemistry, 74(2), 645-651 (2008-12-06)
The application of a zinc carbenoid-mediated chain-extension reaction to a functionalized peptide isostere is reported. The cleavage site of human CVM protease was utilized as a target for testing the synthetic methodology. The utility of this chain-extension reaction is demonstrated
Abu Bakar Md et al.
Chemical & pharmaceutical bulletin, 56(1), 57-59 (2008-01-08)
N-Heterocyclic carbenes (NHCs) were generated in-situ from imidazolium and imidazolinium salts by deprotonation of C-2 hydrogen and were used as ligands in the copper-catalyzed addition of diethylzinc to N-sulfonylimines. The copper-NHC complexes were shown to possess an efficient ligand acceleration
Efficient chirality switching in the addition of diethylzinc to aldehydes in the presence of simple chiral alpha-amino amides.
M Isabel Burguete et al.
Angewandte Chemie (International ed. in English), 46(47), 9002-9005 (2007-09-26)
Afficher tous les articles scientifiques apparentés

Articles

Molecular Layer Deposition of Polymers

Atomic layer deposition meets various needs including semiconductor device miniaturization and nanoparticle coating.

Savannah ALD System for Atomic Layer Deposition

Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.

Dye-Sensitized and Perovskite Solar Cells

Continuous efficiency improvements in photovoltaic devices result from material advancements and manufacturing innovation.

Atomic Layer Deposition of Nanomaterials for Li-Ion Batteries, Fuel Cells, and Solar Cells

Nanomaterials are considered a route to the innovations required for large-scale implementation of renewable energy technologies in society to make our life sustainable.

Afficher tout

Notre équipe de scientifiques dispose d'une expérience dans tous les secteurs de la recherche, notamment en sciences de la vie, science des matériaux, synthèse chimique, chromatographie, analyse et dans de nombreux autres domaines..

Contacter notre Service technique