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Sigma-Aldrich

Tantalum nitride etchant

Sinônimo(s):

Tantalum nitride etch

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About This Item

Número MDL:
MFCD08705363
Código UNSPSC:
12161700
NACRES:
NA.23

Descrição geral

Tantalum nitride etchant is a high purity etchant systems for precise, clean etching of tantalum, tantalum nitride, and tantalum oxide thin films and resists in electronics applications.

Aplicação

Etchant solution for precise, clean etching of tantalum, tantalum nitride, and tantalum oxide thin films and resists in electronics applications

Características e benefícios

Etch rate 70-80 Å / sec @ 25 C. Use with gold positive or negative photoresist. Rinse with Deionized water.

Nota de preparo

  • Etch times vary depending on material type (Ta, TaN, or Ta2O5) and purity.
  • Dilute with water or lower the temperature to achieve a lower etch rate. Adding 1 part water to 2 parts etchant or reducing the temperature 10 °C will approximately reduce the etch rate by 50%.
  • Parts to be etched should be placed in etchant solution with mild to moderate mechanical agitation.
  • Tantalum Etchants contain hydrofluoric acid and will attack silicon oxides, titanium, nickel, aluminum, and chromium.
  • Gold would be the ideal etch stop. You might also succeed with tungsten
  • Rinse with Deionized water.

Pictogramas

Skull and crossbonesCorrosion
GHS06,GHS05

Palavra indicadora

Danger

Classificações de perigo

Acute Tox. 1 Dermal - Acute Tox. 2 Oral - Acute Tox. 3 Inhalation - Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Skin Corr. 1A

Perigos de suplementos

EUH071

Código de classe de armazenamento

6.1B - Non-combustible acute toxic Cat. 1 and 2 / very toxic hazardous materials

Classe de risco de água (WGK)

WGK 2

Ponto de fulgor (°F)

Not applicable

Ponto de fulgor (°C)

Not applicable

Equipamento de proteção individual

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

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Certificados de análise (COA)

Lot/Batch Number
MKCQ6382
MKCC1405
MKBR1199V
36898MJ
11703BE

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