Pular para o conteúdo
Merck
Todas as fotos(1)

Documentos Principais

667447

Sigma-Aldrich

Ceramic Etchant A

Sinônimo(s):

Al2O3 Etch, Aluminum Oxide Etchant, GaN Etch, Gallium Nitride Etchant, Si3N4 Etch, Silicon Nitride Etchant

Faça loginpara ver os preços organizacionais e de contrato

Selecione um tamanho

500 ML
R$ 626,00

R$ 626,00


Check Cart for Availability

Solicite uma grande encomenda

Selecione um tamanho

Alterar visualização
500 ML
R$ 626,00

About This Item

Número MDL:
Código UNSPSC:
12352300
NACRES:
NA.23

R$ 626,00


Check Cart for Availability

Solicite uma grande encomenda

Nível de qualidade

Aplicação

Useful for fast and controllable etching of silicon nitride (Si3N4), galium nitride (GaN), or aluminum oxide (Al2O3).

Características e benefícios

Etch Rates @ 180 °C:
Aluminum oxide 120 Å/min
Silicon nitride 125 Å/min
Gallium nitride 80 Å/min
Silicon dioxide 1 Å/min
Silicon 1 Å/min

Pictogramas

CorrosionExclamation mark

Palavra indicadora

Danger

Frases de perigo

Classificações de perigo

Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Skin Corr. 1B

Código de classe de armazenamento

8B - Non-combustible corrosive hazardous materials

Classe de risco de água (WGK)

WGK 1

Ponto de fulgor (°F)

Not applicable

Ponto de fulgor (°C)

Not applicable

Equipamento de proteção individual

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter


Escolha uma das versões mais recentes:

Certificados de análise (COA)

Lot/Batch Number

Não está vendo a versão correta?

Se precisar de uma versão específica, você pode procurar um certificado específico pelo número do lote ou da remessa.

Já possui este produto?

Encontre a documentação dos produtos que você adquiriu recentemente na biblioteca de documentos.

Visite a Biblioteca de Documentos

Questions

1–2 of 2 Questions  
  1. What is the etch selectivity of the etchant with respect to YSZ? Will it attack YSZ.

    1 answer
    1. Unfortunately, the etch selectivity to YSZ has not been determined. The bulk of this product is phosphoric acid, which has been studied as an etchant for Yttria-stabilized Zirconia. Please see the links below to publications that may be helpful.
      ACID ETCHING SURFACE TREATMENT OF FELDSPATHIC, ALUMINA AND ZIRCONIA CERAMICS: A MICROMORPHOLOGICAL SEM ANALYSIS.
      http://moderndentistrymedia.com/may_june2006/zarone2.pdf

      Effect of 37% Phosphoric Acid Etchant on Surface Topography of Zirconia Crowns – An In Vitro Study
      https://aimdrjournal.com/wp-content/uploads/2021/06/DE2_OA_Adi-edit.pdf

      Room-temperature etching of stabilized zirconia
      https://link.springer.com/content/pdf/10.1007/BF00838349.pdf

      Helpful?

  2. What is the etch selectivity of the etchant with respect to aluminum metal? Is product 667447 suitable for use as an alumina etchant?

    1 answer
    1. The Ceramic Etchant A has a much higher etching rate for aluminum compared to alumina. Additionally, without an oxidizer, it may leave smut and residue behind. Given the solubility properties of both materials, it is not feasible to selectively etch alumina without significantly faster etching of aluminum.

      Helpful?

Reviews

No rating value

Active Filters

Nossa equipe de cientistas tem experiência em todas as áreas de pesquisa, incluindo Life Sciences, ciência de materiais, síntese química, cromatografia, química analítica e muitas outras.

Entre em contato com a assistência técnica