The technical bulletin for negative photoresist procedures indicates that the developer corresponding to this product is suitable for use with the SU8-2 type of photoresist.
https://www.sigmaaldrich.com/deepweb/assets/sigmaaldrich/product/documents/345/019/al_techbull_al217.pdf
About This Item
Código UNSPSC:
12352300
NACRES:
NA.23
Preço e disponibilidade não estão disponíveis no momento.
Produtos recomendados
Nível de qualidade
p.e.
129-138 °C (lit.)
densidade
0.89 g/mL at 25 °C (lit.)
temperatura de armazenamento
2-8°C
Categorias relacionadas
Descrição geral
Available as part of Negative Photoresist kit 654892
Palavra indicadora
Danger
Frases de perigo
Declarações de precaução
Classificações de perigo
Acute Tox. 4 Dermal - Acute Tox. 4 Inhalation - Aquatic Chronic 3 - Asp. Tox. 1 - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - Repr. 1B - Skin Irrit. 2 - STOT RE 2 Inhalation - STOT SE 3
Órgãos-alvo
Central nervous system,Liver,Kidney, Respiratory system
Código de classe de armazenamento
3 - Flammable liquids
Classe de risco de água (WGK)
WGK 2
Ponto de fulgor (°F)
78.8 °F - closed cup
Ponto de fulgor (°C)
26 °C - closed cup
Equipamento de proteção individual
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter
Escolha uma das versões mais recentes:
Já possui este produto?
Encontre a documentação dos produtos que você adquiriu recentemente na biblioteca de documentos.
Protocolos
Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.
-
Can I use this developer with the photoresist SU8-2?
1 answer-
Helpful?
-
Active Filters
Nossa equipe de cientistas tem experiência em todas as áreas de pesquisa, incluindo Life Sciences, ciência de materiais, síntese química, cromatografia, química analítica e muitas outras.
Entre em contato com a assistência técnica
