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651761

Sigma-Aldrich

Negative resist remover I

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About This Item

Código UNSPSC:
12352300
NACRES:
NA.23

prazo de validade

1 yr (cool area away from direct sunlight)

pH

<2 (20 °C)

pb

204-304 °C (lit.)

densidade

1.00 g/mL at 25 °C (lit.)

temperatura de armazenamento

2-8°C

Descrição geral

Available as part of Negative Photoresist kit 654892
Low pH formulation for removal of photoresist cured onto various substrates. Non-corrosive to metals and oxides. Does not contain chlorinated hydrocarbons, chromates, phenol, or phosphates. Performs well at room and elevated temperatures.

Palavra indicadora

Danger

Frases de perigo

Classificações de perigo

Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 2 - Asp. Tox. 1 - Carc. 2 - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1

Código de classe de armazenamento

8A - Combustible corrosive hazardous materials

Classe de risco de água (WGK)

WGK 3

Ponto de fulgor (°F)

204.8 °F

Ponto de fulgor (°C)

96 °C


Certificados de análise (COA)

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Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.

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