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Sigma-Aldrich

Tetraethylorthosilicat

packaged for use in deposition systems

Synonym(e):

Tetraethylorthosilikat, Orthokieselsäure-Tetraethylester, TEOS, Tetraethoxysilan

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About This Item

Lineare Formel:
Si(OC2H5)4
CAS-Nummer:
78-10-4
Molekulargewicht:
208.33
Beilstein:
1422225
EG-Nummer:
201-083-8
MDL-Nummer:
MFCD00009062
UNSPSC-Code:
12352103
PubChem Substanz-ID:
329766783
NACRES:
NA.23

Dampfdichte

7.2 (vs air)

Dampfdruck

<1 mmHg ( 20 °C)

Assay

≥99.5% (GC)

Form

liquid

Brechungsindex

n20/D 1.382 (lit.)

bp

168 °C (lit.)

Dichte

0.933 g/mL at 20 °C (lit.)

SMILES String

CCO[Si](OCC)(OCC)OCC

InChI

1S/C8H20O4Si/c1-5-9-13(10-6-2,11-7-3)12-8-4/h5-8H2,1-4H3

InChIKey

BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N

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Anwendung

Tetraethyl orthosilicate (TEOS) is an oxygen containing precursor of Si used for the deposition of:
  • Si oxide
  • Oxycarbide
  • Doped silicate
  • Silanol
  • Siloxane polymer
  • Organosilicon thin films

The films can be deposited at low temperatues (<250 °C). TEOS is also used to deposit mesoporous and nanoporous thin films of silica. These porous films can be doped during deposition to further enhance their properties.
Häufig als Vorstufe zur Herstellung von Xerogel verwendet
Wechselwirkung mit Dodecylamin bei der Bildung von Interkalationsverbindungen von H+-Magadiit und Verwendung in einer Studie über bioaktive Gläser aus Mischmetall.

Piktogramme

FlameExclamation mark
GHS02,GHS07

Signalwort

Warning

Gefahreneinstufungen

Acute Tox. 4 Inhalation - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - STOT SE 3

Zielorgane

Respiratory system

Lagerklassenschlüssel

3 - Flammable liquids

WGK

WGK 1

Flammpunkt (°F)

113.0 °F - closed cup

Flammpunkt (°C)

45 °C - closed cup

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