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Merck

667447

Sigma-Aldrich

Keramisches Ätzmittel A

Synonym(e):

Al2O3 Beize, Aluminiumoxid Ätzmittel, GaN Etch, Galliumnitrid Ätzmittel, Si3N4 Beize, Siliziumnitrid Ätzmittel

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About This Item

MDL-Nummer:
UNSPSC-Code:
12352300
NACRES:
NA.23

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Qualitätsniveau

Anwendung

Useful for fast and controllable etching of silicon nitride (Si3N4), galium nitride (GaN), or aluminum oxide (Al2O3).

Leistungsmerkmale und Vorteile

Etch Rates @ 180 °C:
Aluminum oxide 120 Å/min
Silicon nitride 125 Å/min
Gallium nitride 80 Å/min
Silicon dioxide 1 Å/min
Silicon 1 Å/min

Piktogramme

CorrosionExclamation mark

Signalwort

Danger

Gefahreneinstufungen

Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Skin Corr. 1B

Lagerklassenschlüssel

8B - Non-combustible corrosive hazardous materials

WGK

WGK 1

Flammpunkt (°F)

Not applicable

Flammpunkt (°C)

Not applicable

Persönliche Schutzausrüstung

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter


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Questions

1–2 of 2 Questions  
  1. What is the etch selectivity of the etchant with respect to YSZ? Will it attack YSZ.

    1 answer
    1. Unfortunately, the etch selectivity to YSZ has not been determined. The bulk of this product is phosphoric acid, which has been studied as an etchant for Yttria-stabilized Zirconia. Please see the links below to publications that may be helpful.
      ACID ETCHING SURFACE TREATMENT OF FELDSPATHIC, ALUMINA AND ZIRCONIA CERAMICS: A MICROMORPHOLOGICAL SEM ANALYSIS.
      http://moderndentistrymedia.com/may_june2006/zarone2.pdf

      Effect of 37% Phosphoric Acid Etchant on Surface Topography of Zirconia Crowns – An In Vitro Study
      https://aimdrjournal.com/wp-content/uploads/2021/06/DE2_OA_Adi-edit.pdf

      Room-temperature etching of stabilized zirconia
      https://link.springer.com/content/pdf/10.1007/BF00838349.pdf

      Helpful?

  2. What is the etch selectivity of the etchant with respect to aluminum metal? Is product 667447 suitable for use as an alumina etchant?

    1 answer
    1. The Ceramic Etchant A has a much higher etching rate for aluminum compared to alumina. Additionally, without an oxidizer, it may leave smut and residue behind. Given the solubility properties of both materials, it is not feasible to selectively etch alumina without significantly faster etching of aluminum.

      Helpful?

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