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736007

Sigma-Aldrich

三异丙氧基氧化钒(V)

packaged for use in deposition systems

同義詞:

VTIP, 三异丙氧基氧化钒, 氧化三异丙醇钒

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About This Item

線性公式:
OV(OCH(CH3)2)3
CAS號碼:
分子量::
244.20
EC號碼:
MDL號碼:
分類程式碼代碼:
12352103
PubChem物質ID:
NACRES:
NA.23
暫時無法取得訂價和供貨情況

品質等級

形狀

liquid

成份

V, 20.3-21.4% titration (, by potassium permanganate)

反應適用性

core: vanadium

折射率

n20/D 1.479 (lit.)

bp

80-82 °C/2 mmHg (lit.)

密度

1.035 g/mL at 25 °C (lit.)

SMILES 字串

CC(C)O[V](=O)(OC(C)C)OC(C)C

InChI

1S/3C3H7O.O.V/c3*1-3(2)4;;/h3*3H,1-2H3;;/q3*-1;;+3

InChI 密鑰

DSGGJXAUQHKOGQ-UHFFFAOYSA-N

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象形圖

FlameExclamation mark

訊號詞

Warning

危險分類

Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - Skin Irrit. 2 - STOT SE 3

標靶器官

Respiratory system

儲存類別代碼

3 - Flammable liquids

水污染物質分類(WGK)

WGK 3

閃點(°F)

113.0 °F - closed cup

閃點(°C)

45 °C - closed cup


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Colm Glynn et al.
Nanoscale, 7(47), 20227-20237 (2015-11-18)
Devices composed of transparent materials, particularly those utilizing metal oxides, are of significant interest due to increased demand from industry for higher fidelity transparent thin film transistors, photovoltaics and a myriad of other optoelectronic devices and optics that require more

文章

Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.

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