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Sigma-Aldrich

对甲苯基[2-(三甲基甲硅烷基)乙炔基]砜

98%

同義詞:

1-(对甲苯磺酰基)-2-(三甲基甲硅烷基)乙炔, 2-(三甲基甲硅烷基)乙炔基对甲苯基砜

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About This Item

線性公式:
(CH3)3SiC≡CSO2C6H4CH3
CAS號碼:
分子量::
252.40
Beilstein:
2650368
MDL號碼:
分類程式碼代碼:
12352100
PubChem物質ID:
NACRES:
NA.22
暫時無法取得訂價和供貨情況

化驗

98%

mp

80-83 °C (lit.)

儲存溫度

2-8°C

SMILES 字串

Cc1ccc(cc1)S(=O)(=O)C#C[Si](C)(C)C

InChI

1S/C12H16O2SSi/c1-11-5-7-12(8-6-11)15(13,14)9-10-16(2,3)4/h5-8H,1-4H3

InChI 密鑰

MMUNNGUGQXEUBR-UHFFFAOYSA-N

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一般說明

p-Tolyl [2-(trimethylsilyl)ethynyl] sulfone is an aryl trimethylsilylethynyl sulfone. It can be synthesized from bis(trimethylsilyl)acetylene.[1]

應用

p-Tolyl [2-(trimethylsilyl)ethynyl] sulfone (1-tosyl-2-(trimethylsilyl)acetylene) may be used as a reactant in the synthesis of Cp(OC)2M-C=CSiMe3 (M = Fe, Ru) by reacting with [Cp(OC)2M ]-Na+[2] and as a reagent in the photochemical alkynylation of unreactive C (sp3)–H bonds.[3]

象形圖

Exclamation mark

訊號詞

Warning

危險聲明

危險分類

Eye Irrit. 2 - Skin Irrit. 2 - STOT SE 3

標靶器官

Respiratory system

儲存類別代碼

11 - Combustible Solids

水污染物質分類(WGK)

WGK 3

閃點(°F)

Not applicable

閃點(°C)

Not applicable

個人防護裝備

dust mask type N95 (US), Eyeshields, Gloves


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Photochemically induced radical alkynylation of C (sp3)-H bonds.
Hoshikawa T, et al.
Organic & Biomolecular Chemistry, 11(1), 164-169 (2012)
King RB.
Organometallic Syntheses, 4, 466-466 (2013)
p-Tolyl(trimethylsiIylethynyl)sulfone as Synthon for the Synthesis of Cp(OC)2M -C=CSiMe3 (M = Fe, Ru). Molecular Structure of Cp(OC)2Fe-C=CSiMe3
Weinrich V and Beck W.
Zeitschrift fur Naturforschung, 54, 701-703 (1999)

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