Wszystkie zdjęcia(2)
Key Documents
GF69185289
Tantalum
foil, 10mm disks, thickness 0.25mm, annealed, 99.99%
Synonim(y):
Tantalum, TA000472, Ta
Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych
About This Item
Wzór empiryczny (zapis Hilla):
Ta
Numer CAS:
Masa cząsteczkowa:
180.95
Numer MDL:
Kod UNSPSC:
12141741
Identyfikator substancji w PubChem:
NACRES:
NA.23
ciśnienie pary
<0.01 mmHg ( 537.2 °C)
Próba
99.99%
Postać
foil
temp. samozapłonu
572 °F
producent / nazwa handlowa
Goodfellow 691-852-89
rezystywność
13.5 μΩ-cm, 20°C
śr. × grubość
10 mm × 0.25 mm
tw
5425 °C (lit.)
mp
2996 °C (lit.)
gęstość
16.69 g/cm3 (lit.)
ciąg SMILES
[Ta]
InChI
1S/Ta
Klucz InChI
GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N
Opis ogólny
For updated SDS information please visit www.goodfellow.com.
Informacje prawne
Product of Goodfellow
This page may contain text that has been machine translated.
Certyfikaty analizy (CoA)
Poszukaj Certyfikaty analizy (CoA), wpisując numer partii/serii produktów. Numery serii i partii można znaleźć na etykiecie produktu po słowach „seria” lub „partia”.
Masz już ten produkt?
Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.
Zhongli Cai et al.
The journal of physical chemistry. B, 109(10), 4796-4800 (2006-07-21)
Both monolayer and thick (20 microm) films of dry pGEM-3Zf(-) plasmid DNA deposited on tantalum foil were exposed to Al Kalpha X-rays (1.5 keV) for various times in an ultrahigh vacuum chamber. For monolayer DNA, the damage was induced mainly
Tantalum foil pegs.
E MAXWELL
American journal of ophthalmology, 34(3), 444-444 (1951-03-01)
Radmila Panajotovic et al.
Radiation research, 165(4), 452-459 (2006-04-04)
We determined effective cross sections for production of single-strand breaks (SSBs) in plasmid DNA [pGEM 3Zf(-)] by electrons of 10 eV and energies between 0.1 and 4.7 eV. After purification and lyophilization on a chemically clean tantalum foil, dry plasmid
Tantalum foil cuffs in peripheral nerve surgery.
E E CLIFFTON
Surgery, 23(3), 507-514 (1948-03-01)
T Y Hung et al.
Applied optics, 31(22), 4397-4404 (1992-08-01)
A simple four-element fused-silica lens is presented that has a focal length of 31.2 mm and a relative aperture of f/1 for use as a focusing lens for deep UV laser processing. The curvature of the lens is designed with
Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.
Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej