跳转至内容
Merck
所有图片(1)

文件

651788

Sigma-Aldrich

负性光致抗蚀剂显影剂 I

登录查看公司和协议定价
所有图片(1)

About This Item

分類程式碼代碼:
12352300
NACRES:
NA.23

品質等級

100

bp

129-138 °C (lit.)

密度

0.89 g/mL at 25 °C (lit.)

儲存溫度

2-8°C

一般說明

作为负性光致抗蚀剂套装 654892 的一部分提供

訊號詞

Danger

危險分類

Acute Tox. 4 Dermal - Acute Tox. 4 Inhalation - Aquatic Chronic 3 - Asp. Tox. 1 - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - Repr. 1B - Skin Irrit. 2 - STOT RE 2 Inhalation - STOT SE 3

標靶器官

Central nervous system,Liver,Kidney, Respiratory system

儲存類別代碼

3 - Flammable liquids

水污染物質分類（WGK）

WGK 2

閃點（°F）

78.8 °F - closed cup

閃點（°C）

26 °C - closed cup

個人防護裝備

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter

分析证书(COA)

输入产品批号来搜索 分析证书(COA) 。批号可以在产品标签上"批“ （Lot或Batch）字后找到。

已有该产品？

在文件库中查找您最近购买产品的文档。

访问文档库

实验方案

Negative Photoresist Procedure

Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.

Negative Photoresist Procedure

Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.

Negative Photoresist Procedure

Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.

Negative Photoresist Procedure

Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.

我们的科学家团队拥有各种研究领域经验，包括生命科学、材料科学、化学合成、色谱、分析及许多其他领域.

联系技术服务部门