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Sigma-Aldrich

1,4-Bis(trimethylsilyl)benzene

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동의어(들):

p-Phenylenebis(trimethylsilane)

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About This Item

Linear Formula:
C6H4[Si(CH3)3]2
CAS Number:
13183-70-5
Molecular Weight:
222.47
Beilstein:
1867055
MDL number:
MFCD00015592
UNSPSC 코드:
12352100
PubChem Substance ID:
24867483
NACRES:
NA.22

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Quality Level

100

분석

96%

양식

solid

bp

194 °C/742 mmHg (lit.)

mp

91-94 °C (lit.)

SMILES string

C[Si](C)(C)c1ccc(cc1)[Si](C)(C)C

InChI

1S/C12H22Si2/c1-13(2,3)11-7-9-12(10-8-11)14(4,5)6/h7-10H,1-6H3

InChI key

NVRBTKMAZQNKPX-UHFFFAOYSA-N

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관련 카테고리

애플리케이션

1,4-Bis(trimethylsilyl)benzene (TMSB) can be used:
  • As a precursor for developing silicon carbide coating using plasma-assisted chemical vapor deposition (CVD) process.[1]
  • As a secondary standard in quantitative NMR (qNMR) spectroscopy.[2]
  • As an internal standard for quantitation of small organic molecules in DMSO-d6 solution by 1H NMR spectroscopy.[3]

Storage Class Code

11 - Combustible Solids

WGK

WGK 3

Flash Point (°F)

347.0 °F - closed cup

Flash Point (°C)

175 °C - closed cup

개인 보호 장비

Eyeshields, Gloves, type N95 (US)

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시험 성적서(COA)

Lot/Batch Number
MKCV0638
MKCQ8931
MKCJ9337
MKCH7049
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Hexamethylbenzene 99%

Sigma-Aldrich

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Hexamethylbenzene

Synthesis of 1, 4-dihydropyrrolo [3, 2-b] pyrrole.
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Characterization of small combinatorial chemistry libraries by 1H NMR. Quantitation with a convenient and novel internal standard
Pinciroli V, et al.
Journal of Combinatorial Chemistry, 3(5), 434-440 (2001)
Role of vapor pressure of 1, 4-bis (trimethylsilyl) benzene in developing silicon carbide thin film using a plasma-assisted liquid injection chemical vapor deposition process
Selvakumar J, et al.
Surface and Coatings Technology, 205(11), 3493-3498 (2011)
Use and qualification of primary and secondary standards employed in quantitative 1H NMR spectroscopy of pharmaceuticals
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Journal of Pharmaceutical and Biomedical Analysis, 93(11), 111-117 (2014)
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질문

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