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Solvent dependent reductive defluorination of aliphatic C-F bonds employing Sm(HMDS)2.

Solvent dependent reductive defluorination of aliphatic C-F bonds employing Sm(HMDS)2.

Chemical communications (Cambridge, England) (2013-01-30)

Mario Janjetovic, Annika M Träff, Tobias Ankner, Jenny Wettergren, Göran Hilmersson

要旨

Sm(HMDS)(2) in n-hexane mediates fast cleavage of primary, secondary and tertiary alkyl fluorides in good to excellent yields. In n-hexane Sm(HMDS)(2) exhibits uniquely enhanced reductive ability towards the C-F bond compared to when using THF as solvent.

材料

製品番号

ブランド

製品内容

Sigma-Aldrich

リチウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液, 1.0 M in THF

Sigma-Aldrich

ヘキサメチルジシラザン, reagent grade, ≥99%

Sigma-Aldrich

ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液, 1.0 M in THF

Sigma-Aldrich

カリウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液, 1 M in THF

Sigma-Aldrich

カリウムビス(トリメチルシリル)アミド, 95%

Sigma-Aldrich

ヘキサメチルジシラザン, ReagentPlus^®, 99.9%

Sigma-Aldrich

リチウムビス(トリメチルシリル)アミド, 97%

Sigma-Aldrich

リチウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液, 1 M in toluene

Sigma-Aldrich

ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド, 95%

Sigma-Aldrich

リチウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液, 1.5 M in THF

Sigma-Aldrich

カリウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液, 0.5 M in toluene

Sigma-Aldrich

リチウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液, 1.0 M in hexanes

Sigma-Aldrich

ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液, 40% in THF

Supelco

ヘキサメチルジシラザン, for GC derivatization, LiChropur^™, ≥99.0% (GC)

Sigma-Aldrich

サマリウム, −40 mesh, 99% trace rare earth metals basis

Sigma-Aldrich

ヘキサメチルジシラザン, produced by Wacker Chemie AG, Burghausen, Germany, ≥97.0% (GC)

Sigma-Aldrich

Tris[N,N-bis(trimethylsilyl)amide]yttrium

Sigma-Aldrich

ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液, 0.6 M in toluene

Sigma-Aldrich

カリウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液, 1.0 M in 2-methyltetrahydrofuran

Sigma-Aldrich

リチウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液, 1 M in tert-butyl methyl ether

Sigma-Aldrich

リチウムビス(トリメチルシリル)アミド溶液, 0.5 M in 2-methyltetrahydrofuran

Sigma-Aldrich

トリス[N,N-ビス(トリメチルシリル)アミド]サマリウム(III), 98%