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Merck

Simple method of specimen preparation for scanning electron microscopy.

Bulletin of experimental biology and medicine (2012-03-28)
S V Buravkov, V P Chernikov, L B Buravkova
要旨

We compared conventional method for specimen (cell cultures, tissue specimens) preparation for scanning electron microscopy and a method without sputtering and critical-point drying. OTO-method (osmium-thiocarbohydrazide-osmium) with sample impregnation with hexamethyldisilazane followed by air drying was used as an alternative method. Excellent preservation of surface ultrastructures and electrical conductivity was proved. The method is easy to use and does not require additional costs for equipment.

材料
製品番号
ブランド
製品内容

Sigma-Aldrich
リチウムビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 1.0 M in THF
Sigma-Aldrich
ヘキサメチルジシラザン, reagent grade, ≥99%
Sigma-Aldrich
ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 1.0 M in THF
Sigma-Aldrich
リチウムビス(トリメチルシリル)アミド, 97%
Sigma-Aldrich
カリウムビス(トリメチルシリル)アミド, 95%
Sigma-Aldrich
カリウム ビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 1 M in THF
Sigma-Aldrich
ヘキサメチルジシラザン, ReagentPlus®, 99.9%
Sigma-Aldrich
リチウムビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 1 M in toluene
Sigma-Aldrich
ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド, 95%
Sigma-Aldrich
カリウム ビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 0.5 M in toluene
Supelco
ヘキサメチルジシラザン, derivatization grade (GC derivatization), LiChropur, ≥99.0% (GC)
Sigma-Aldrich
リチウムビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 1.5 M in THF
Sigma-Aldrich
ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 40% in THF
Sigma-Aldrich
リチウムビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 1.0 M in hexanes
Sigma-Aldrich
ヘキサメチルジシラザン, Wacker Chemie AG, ≥97.0% (GC)
Sigma-Aldrich
リチウムビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 0.5 M in 2-methyltetrahydrofuran
Sigma-Aldrich
ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 0.6 M in toluene
Sigma-Aldrich
カリウム ビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 1.0 M in 2-methyltetrahydrofuran
Sigma-Aldrich
Tris[N,N-bis(trimethylsilyl)amide]yttrium
Sigma-Aldrich
リチウムビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 1 M in tert-butyl methyl ether
Sigma-Aldrich
トリス[N,N-ビス(トリメチルシリル)アミド]サマリウム(III), 98%
Sigma-Aldrich
カリウム ビス(トリメチルシリル)アミド 溶液, 1.0 M in methyl tert-butyl ether