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Merck

651761

Sigma-Aldrich

Negative resist remover I

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About This Item

UNSPSCコード:
12352300
NACRES:
NA.23

シェルフライフ

1 yr (cool area away from direct sunlight)

品質水準

pH

<2 (20 °C)

bp

204-304 °C (lit.)

密度

1.00 g/mL at 25 °C (lit.)

保管温度

2-8°C

詳細

さまざまな基板上で硬化したフォトレジストの除去に使用する低pH調製剤です。 金属および酸化物を腐食しません。塩素化炭化水素、クロム酸塩、フェノール、またはリン酸塩を含みません。室温および高温で良好な性能を発揮します。
Available as part of Negative Photoresist kit 654892

ピクトグラム

Health hazardCorrosionExclamation markEnvironment

シグナルワード

Danger

危険有害性情報

危険有害性の分類

Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 2 - Asp. Tox. 1 - Carc. 2 - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1

保管分類コード

8A - Combustible corrosive hazardous materials

WGK

WGK 3

引火点(°F)

204.8 °F

引火点(℃)

96 °C


適用法令

試験研究用途を考慮した関連法令を主に挙げております。化学物質以外については、一部の情報のみ提供しています。 製品を安全かつ合法的に使用することは、使用者の義務です。最新情報により修正される場合があります。WEBの反映には時間を要することがあるため、適宜SDSをご参照ください。

PRTR

第一種指定化学物質

労働安全衛生法名称等を表示すべき危険物及び有害物

名称等を表示すべき危険物及び有害物

労働安全衛生法名称等を通知すべき危険物及び有害物

名称等を通知すべき危険物及び有害物

Jan Code

651761-250ML:4548173913131
651761-BULK:
651761-VAR:


試験成績書(COA)

製品のロット番号・バッチ番号を入力して、試験成績書(COA) を検索できます。ロット番号・バッチ番号は、製品ラベルに「Lot」または「Batch」に続いて記載されています。

以前この製品を購入いただいたことがある場合

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プロトコル

Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.

本フォトレジストキットには、リソグラフィープロセスにおける各ステップで必要な材料が含まれています。各材料は、すぐにお使いいただけるようにあらかじめ計量されており、エッチング液については、様々な基板に適切なものをお選びいただけるように、個別に販売しています。

ライフサイエンス、有機合成、材料科学、クロマトグラフィー、分析など、あらゆる分野の研究に経験のあるメンバーがおります。.

製品に関するお問い合わせはこちら(テクニカルサービス)