651788
Negative resist developer I
About This Item
Prodotti consigliati
P. eboll.
129-138 °C (lit.)
Densità
0.89 g/mL at 25 °C (lit.)
Temperatura di conservazione
2-8°C
Categorie correlate
Descrizione generale
Avvertenze
Danger
Indicazioni di pericolo
Consigli di prudenza
Classi di pericolo
Acute Tox. 4 Dermal - Acute Tox. 4 Inhalation - Aquatic Chronic 3 - Asp. Tox. 1 - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - Repr. 1B - Skin Irrit. 2 - STOT RE 2 Inhalation - STOT SE 3
Organi bersaglio
Central nervous system,Liver,Kidney, Respiratory system
Codice della classe di stoccaggio
3 - Flammable liquids
Classe di pericolosità dell'acqua (WGK)
WGK 2
Punto d’infiammabilità (°F)
78.8 °F - closed cup
Punto d’infiammabilità (°C)
26 °C - closed cup
Dispositivi di protezione individuale
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter
Certificati d'analisi (COA)
Cerca il Certificati d'analisi (COA) digitando il numero di lotto/batch corrispondente. I numeri di lotto o di batch sono stampati sull'etichetta dei prodotti dopo la parola ‘Lotto’ o ‘Batch’.
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Protocolli
Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.
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