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形狀
solution
濃度
~2.0 M in THF
SMILES 字串
CN(C)P(=NC(C)(C)C)(N=P(N(C)C)(N(C)C)N(C)C)N(C)C
InChI
1S/C14H39N7P2/c1-14(2,3)15-22(17(4)5,18(6)7)16-23(19(8)9,20(10)11)21(12)13/h1-13H3
InChI 密鑰
CJTQESMNKMUZAO-UHFFFAOYSA-N
其他說明
具有位阻的含中性氮的强碱;其碱性约为 DBU [pKa (DMSO) 21.45] 的 109 倍。水解稳定且不受烷基化试剂的影响;高选择性碱;膦类化合物的脱质子化
訊號詞
Danger
危險分類
Carc. 2 - Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - STOT SE 3
標靶器官
Respiratory system
安全危害
儲存類別代碼
3 - Flammable liquids
水污染物質分類(WGK)
WGK 3
閃點(°F)
1.4 °F - closed cup
閃點(°C)
-17 °C - closed cup
個人防護裝備
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
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Phosphorus, Sulfur, and Silicon and the Related Elements, 81, 155-155 (1993)
Liebigs Ann. Chem., 1055-1055 (1996)
Angewandte Chemie (International Edition in English), 101, 1281-1281 (1989)
商品
Phosphazene base reagents are available as monomeric (P1 and BEMP), dimeric (P2), and tetrameric (P4) bases with different side chains to control their sterical hindrance.
我们的科学家团队拥有各种研究领域经验,包括生命科学、材料科学、化学合成、色谱、分析及许多其他领域.
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