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Sigma-Aldrich

Orthosilicate de tétraéthyle

packaged for use in deposition systems

Synonyme(s) :

Ester tétraéthylique de l'acide orthosilicique, TEOS, Tétraéthoxysilane

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About This Item

Formule linéaire :
Si(OC2H5)4
Numéro CAS:
78-10-4
Poids moléculaire :
208.33
Numéro Beilstein :
1422225
Numéro CE :
201-083-8
Numéro MDL:
MFCD00009062
Code UNSPSC :
12352103
ID de substance PubChem :
329766783
Nomenclature NACRES :
NA.23

Densité de vapeur

7.2 (vs air)

Niveau de qualité

100

Pression de vapeur

<1 mmHg ( 20 °C)

Pureté

≥99.5% (GC)

Forme

liquid

Indice de réfraction

n20/D 1.382 (lit.)

Point d'ébullition

168 °C (lit.)

Densité

0.933 g/mL at 20 °C (lit.)

Chaîne SMILES 

CCO[Si](OCC)(OCC)OCC

InChI

1S/C8H20O4Si/c1-5-9-13(10-6-2,11-7-3)12-8-4/h5-8H2,1-4H3

Clé InChI

BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N

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Application

Tetraethyl orthosilicate (TEOS) is an oxygen containing precursor of Si used for the deposition of:
  • Si oxide
  • Oxycarbide
  • Doped silicate
  • Silanol
  • Siloxane polymer
  • Organosilicon thin films

The films can be deposited at low temperatues (<250 °C). TEOS is also used to deposit mesoporous and nanoporous thin films of silica. These porous films can be doped during deposition to further enhance their properties.
Couramment utilisé comme précurseur dans la préparation de xérogel
Interagit avec la dodécylamine dans la formation de composés d'intercalation de magadiite-H+ et utilisé dans une étude portant sur des verres bioactifs comprenant un mélange de métaux.

Pictogrammes

FlameExclamation mark
GHS02,GHS07

Mention d'avertissement

Warning

Mentions de danger

H226,H319,H332,H335

Classification des risques

Acute Tox. 4 Inhalation - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - STOT SE 3

Organes cibles

Respiratory system

Code de la classe de stockage

3 - Flammable liquids

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 1

Point d'éclair (°F)

113.0 °F - closed cup

Point d'éclair (°C)

45 °C - closed cup

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