Accéder au contenu
Merck
Toutes les photos(1)

Key Documents

759562

Sigma-Aldrich

Tris(dimethylamino)silane

packaged for use in deposition systems

Synonyme(s) :

Tris(dimethylamino)silane, (Me2N)3SiH, N,N,N′,N′,N′′, N′′-Hexamethylsilanetriamine, Tris(dimethylamido)silane, N,N,N′,N′,N′′,N′′-Hexamethylsilanetriamine, TDMAS

Se connecterpour consulter vos tarifs contractuels et ceux de votre entreprise/organisme


About This Item

Formule linéaire :
((CH3)2N)3SiH
Numéro CAS:
Poids moléculaire :
161.32
Numéro CE :
Numéro MDL:
Code UNSPSC :
12352103
ID de substance PubChem :
Nomenclature NACRES :
NA.23

Niveau de qualité

Pureté

≥99.9% (GC)

Forme

liquid

Point d'ébullition

142 °C (lit.)

Pf

−90 °C (lit.)

Densité

0.838 g/mL at 25 °C (lit.)

Chaîne SMILES 

CN(C)[SiH](N(C)C)N(C)C

InChI

1S/C6H19N3Si/c1-7(2)10(8(3)4)9(5)6/h10H,1-6H3

Clé InChI

TWVSWDVJBJKDAA-UHFFFAOYSA-N

Vous recherchez des produits similaires ? Visite Guide de comparaison des produits

Description générale

Tris(dimethylamino)silane is an organosilicon compound with high volatility and thermal stability, widely used as a vapor deposition precursor to fabricate silicon-containing thin films for various applications, including solar cells, fuel cell catalysts, and semiconductors. The depositions can be carried out at low substrate temperatures (<150). The melting point and vapor pressure of TDMAS is in a suitable working range, thus making it a very good vapor deposition precursor.

Application

Tris(dimethylamino)silane can be used:
  • As a silicon source for deposition of aluminum silicate on TiO2 anodes for dye-sensitized solar cells vis atomic layer deposition method.
  • As a precursor to fabricate functionalized Si reinforced separators for Li-ion batteries.

Pictogrammes

FlameSkull and crossbonesCorrosion

Mention d'avertissement

Danger

Classification des risques

Acute Tox. 3 Dermal - Acute Tox. 3 Inhalation - Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - Water-react 2

Risques supp

Code de la classe de stockage

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3

Point d'éclair (°F)

16.0 - 32.0 °F - closed cup

Point d'éclair (°C)

-8.89 - 0.00 °C - closed cup


Faites votre choix parmi les versions les plus récentes :

Certificats d'analyse (COA)

Lot/Batch Number

Vous ne trouvez pas la bonne version ?

Si vous avez besoin d'une version particulière, vous pouvez rechercher un certificat spécifique par le numéro de lot.

Déjà en possession de ce produit ?

Retrouvez la documentation relative aux produits que vous avez récemment achetés dans la Bibliothèque de documents.

Consulter la Bibliothèque de documents

Les clients ont également consulté

Boudreau; M.; Boumerzoug; M.; Mascher; P.; Jessop; P. E.
Applied Physics Letters, 63, 3014-3014 (1993)
Hirose; F.; Kinoshita; Y.; Shibuya; S.; et al
Thin Solid Films, 519, 270-270 (2011)
B Ballantyne et al.
Toxicology and industrial health, 5(1), 45-54 (1989-01-01)
The acute handling hazards of tris(dimethylamino)silane [TDMAS] were investigated. The acute male rat peroral LD50 (with 95% confidence limits) was 0.71 (0.51-0.97) ml/kg, and the acute male rabbit percutaneous LD50 was 0.57 (0.35-0.92) ml/kg. The liquid was severely irritating to

Articles

Nanocomposite Coatings with Tunable Properties Prepared by Atomic Layer Deposition

Spintronics offer breakthroughs over conventional memory/logic devices with lower power, leakage, saturation, and complexity.

Spintronics offer breakthroughs over conventional memory/logic devices with lower power, leakage, saturation, and complexity.

Spintronics offer breakthroughs over conventional memory/logic devices with lower power, leakage, saturation, and complexity.

Afficher tout

Notre équipe de scientifiques dispose d'une expérience dans tous les secteurs de la recherche, notamment en sciences de la vie, science des matériaux, synthèse chimique, chromatographie, analyse et dans de nombreux autres domaines..

Contacter notre Service technique