Accéder au contenu
Merck
Toutes les photos(1)

Key Documents

481777

Sigma-Aldrich

Hexafluorotitanic acid solution

60 wt. % in H2O, 99.9% trace metals basis

Synonyme(s) :

Dihydrogen hexafluorotitanate(2−) , Fluorotitanic acid, Hexafluorotitanic acid, Hexafluorotitanic acid (H2 TiF6 )

Se connecterpour consulter vos tarifs contractuels et ceux de votre entreprise/organisme


About This Item

Formule linéaire :
H2TiF6
Numéro CAS:
Poids moléculaire :
163.87
Numéro MDL:
Code UNSPSC :
12352106
ID de substance PubChem :
Nomenclature NACRES :
NA.23

Niveau de qualité

Pureté

99.9% trace metals basis

Concentration

60 wt. % in H2O

Densité

1.675 g/mL at 25 °C

Chaîne SMILES 

F.F.F[Ti](F)(F)F

InChI

1S/6FH.Ti/h6*1H;/q;;;;;;+4/p-4

Clé InChI

PFSXARRIPPWGNC-UHFFFAOYSA-J

Conditionnement

Packaged in poly bottles

Pictogrammes

Skull and crossbonesCorrosion

Mention d'avertissement

Danger

Classification des risques

Acute Tox. 3 Dermal - Acute Tox. 3 Inhalation - Acute Tox. 3 Oral - Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Skin Corr. 1B

Code de la classe de stockage

6.1D - Non-combustible acute toxic Cat.3 / toxic hazardous materials or hazardous materials causing chronic effects

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3

Point d'éclair (°F)

Not applicable

Point d'éclair (°C)

Not applicable

Équipement de protection individuelle

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter


Faites votre choix parmi les versions les plus récentes :

Certificats d'analyse (COA)

Lot/Batch Number

Vous ne trouvez pas la bonne version ?

Si vous avez besoin d'une version particulière, vous pouvez rechercher un certificat spécifique par le numéro de lot.

Déjà en possession de ce produit ?

Retrouvez la documentation relative aux produits que vous avez récemment achetés dans la Bibliothèque de documents.

Consulter la Bibliothèque de documents

Les clients ont également consulté

Slide 1 of 2

1 of 2

Characterization of Titanium Oxide Films Prepared by Liquid Phase Deposition Using Hexafluorotitanic Acid
Lee MK and Lei BH
Jpn J. App. Phys., Part I, 39(2), 103-103 null
"Deposition of high dielectric barium-doped titanium silicon oxide films on silicon using hexafluorotitanic acid and barium nitrate.
Lee MK, et al.
Electrochemical and Solid-State Letters, 7(11), B42-B44 (2004)

Notre équipe de scientifiques dispose d'une expérience dans tous les secteurs de la recherche, notamment en sciences de la vie, science des matériaux, synthèse chimique, chromatographie, analyse et dans de nombreux autres domaines..

Contacter notre Service technique