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654892

Sigma-Aldrich

Aldrich® Negative Photoresist Kit I

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About This Item

Code UNSPSC :
12352300
Nomenclature NACRES :
NA.23

Température de stockage

2-8°C

Description générale

Aldrich® Negative Photoresist Kit I consists of materials for photolithography. The photoresist can be spin coated on the glass substrate for the formation of electrode arrays. The kit also provides masking and patterning on the glass surface.

Application

Aldrich® Negative Photoresist Kit I has been used in the fabrication of microelectrodes by photolithography. It can also be used to fabricate the droplet-based microfluidic device, microfluidic chips, glass optical waveguides, and integrated grating couplers.

Informations légales

Aldrich is a registered trademark of Sigma-Aldrich Co. LLC

Composants de kit également disponibles séparément

Réf. du produit
Description
FDS

  • 651761Negative resist remover I 250 mLFDS

  • 651788Negative resist developer I 250 mLFDS

  • 651796Negative photoresist I 100 mLFDS

  • 651974Negative resist thinner I 100 mLFDS

Mention d'avertissement

Danger

Classification des risques

Acute Tox. 4 Dermal - Acute Tox. 4 Inhalation - Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 2 - Asp. Tox. 1 - Carc. 2 - Eye Dam. 1 - Repr. 1B - Skin Corr. 1 - STOT RE 2 Inhalation - STOT SE 3

Organes cibles

Central nervous system,Liver,Kidney, Respiratory system

Code de la classe de stockage

6.1C - Combustible acute toxic Cat.3 / toxic compounds or compounds which causing chronic effects

Point d'éclair (°F)

Not applicable

Point d'éclair (°C)

Not applicable


Certificats d'analyse (COA)

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Fabrication and characterization of optical waveguides and grating couplers
Sharpe JP, et al.
European Journal of Physics, 34(5), 1317-1317 (2013)

Protocoles

Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.

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