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Merck
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651761

Sigma-Aldrich

Negative resist remover I

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About This Item

Code UNSPSC :
12352300
Nomenclature NACRES :
NA.23

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Durée de conservation

1 yr (cool area away from direct sunlight)

Niveau de qualité

100

pH

<2 (20 °C)

pb

204-304 °C (lit.)

Densité

1.00 g/mL at 25 °C (lit.)

Température de stockage

2-8°C

Catégories apparentées

Description générale

Available as part of Negative Photoresist kit 654892
Low pH formulation for removal of photoresist cured onto various substrates. Non-corrosive to metals and oxides. Does not contain chlorinated hydrocarbons, chromates, phenol, or phosphates. Performs well at room and elevated temperatures.

Mention d'avertissement

Danger

Mentions de danger

H302,H304,H314,H351,H411

Classification des risques

Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 2 - Asp. Tox. 1 - Carc. 2 - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1

Code de la classe de stockage

8A - Combustible corrosive hazardous materials

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3

Point d'éclair (°F)

204.8 °F

Point d'éclair (°C)

96 °C

Faites votre choix parmi les versions les plus récentes :

Certificats d'analyse (COA)

Lot/Batch Number
MKCR8695
MKCN0261
MKCM9918
MKCK5971
MKCK1587

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Protocoles

Negative Photoresist Procedure

Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.

Questions

1–2 sur 2 questions  

  1. For the 65,176-1 Negative Resist Remover, do we also buy H2SO4, or is that already in the 65, 176-1?

    1 réponse

    1. This product does not include H2SO4.

      Utile ?

  2. Is this remover available with AZ 5214E which is an IR photo-resist (positive to negative) ?

    1 réponse

    1. The photoresist remover AZ 5214E (or others options for positive and negative removal) is not available. Unfortunately, the 651761, which is also included in the Negative Photoresist kit (654892), are the only reagents offered at this time.

      Utile ?

Évaluations

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