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Merck

901482

Sigma-Aldrich

Hexamethyldisilazane

20% solution in xylene

Sinónimos:

HMDS

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About This Item

Fórmula lineal:
C6H19NSi2
Número de CAS:
Código UNSPSC:
12352103
NACRES:
NA.23

Formulario

liquid

InChI

1S/C6H19NSi2/c1-8(2,3)7-9(4,5)6/h7H,1-6H3

Clave InChI

FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N

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Descripción general

The product is used to augment the adhesion of photoresist on silicon and SiO2 surfaces.
The effectiveness of HMDS on adhesion is correlated with the reactivity of this compound with surface hydroxyl groups to form a new siloxane end product, i.e. Si-O-Si(CH3)3. This newly formed termination on the substrate renders the surface more hydrophobic in character and leads to greater wettability by photoresist. The latter condition is a crucial factor in good bonding. As a result of these altered characteristics due to the surface chemistry, the treated silicon surfaces become highly compatible with both negative and positive photoresists.

Aplicación

HMDS preparations are generally applied to the silicon wafer while spinning, prior to the application of photoresist. As an alternative procedure, the wafers may be immersed in HMDS preparations and allowed to dry after removal.

Características y beneficios

  • Ready-to-use preparations for surface treatment of silicon.
  • Promotes photoresist adhesion on silicon and SiO2 films.
  • Prevents lift-off at edges of photoresist and reduces undercutting.
  • Ensures full-line resolution.
  • Improves yields of MOS and integrated silicon devices.

Palabra de señalización

Danger

Clasificaciones de peligro

Acute Tox. 3 Dermal - Acute Tox. 4 Inhalation - Aquatic Chronic 3 - Asp. Tox. 1 - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - Skin Irrit. 2 - STOT RE 2 - STOT SE 3

Órganos de actuación

hearing organs, Respiratory system

Código de clase de almacenamiento

3 - Flammable liquids

Clase de riesgo para el agua (WGK)

WGK 2

Punto de inflamabilidad (°F)

76.1 °F

Punto de inflamabilidad (°C)

24.5 °C


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