774022
Yttrium(III) oxide
sputtering target, diam. × thickness 2.00 in. × 0.25 in., 99.99% trace metals basis
Sinónimos:
Yttria
About This Item
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Ensayo
99.99% trace metals basis
Formulario
powder
idoneidad de la reacción
core: yttrium
diám. × grosor
2.00 in. × 0.25 in.
mp
2410 °C (lit.)
densidad
5.01 g/mL at 25 °C (lit.)
cadena SMILES
O=[Y]O[Y]=O
InChI
1S/3O.2Y
Clave InChI
SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N
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Aplicación
Yttrium oxide sputtering target can be used for physical vapor deposition of thin films of yttria stabilized zirconia layers for IT-SOFC. Yttrium containing films are used as thermal barrier and protective coatings in thermoelectric devices, rare earth doped yttrium oxide films are studied for phosphor applications.
Código de clase de almacenamiento
13 - Non Combustible Solids
Clase de riesgo para el agua (WGK)
WGK 1
Punto de inflamabilidad (°F)
Not applicable
Punto de inflamabilidad (°C)
Not applicable
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