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667447

Sigma-Aldrich

Ceramic Etchant A

Sinónimos:

Al2O3 Etch, Aluminum Oxide Etchant, GaN Etch, Gallium Nitride Etchant, Si3N4 Etch, Silicon Nitride Etchant

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About This Item

Número MDL:
Código UNSPSC:
12352300
NACRES:
NA.23

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Aplicación

Useful for fast and controllable etching of silicon nitride (Si3N4), galium nitride (GaN), or aluminum oxide (Al2O3).

Características y beneficios

Etch Rates @ 180 °C:
Aluminum oxide 120 Å/min
Silicon nitride 125 Å/min
Gallium nitride 80 Å/min
Silicon dioxide 1 Å/min
Silicon 1 Å/min

Pictogramas

CorrosionExclamation mark

Palabra de señalización

Danger

Frases de peligro

Clasificaciones de peligro

Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Skin Corr. 1B

Código de clase de almacenamiento

8B - Non-combustible corrosive hazardous materials

Clase de riesgo para el agua (WGK)

WGK 1

Punto de inflamabilidad (°F)

Not applicable

Punto de inflamabilidad (°C)

Not applicable

Equipo de protección personal

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter


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Preguntas

1–2 de 2 Preguntas  
  1. What is the etch selectivity of the etchant with respect to YSZ? Will it attack YSZ.

    1 respuesta
    1. Unfortunately, the etch selectivity to YSZ has not been determined. The bulk of this product is phosphoric acid, which has been studied as an etchant for Yttria-stabilized Zirconia. Please see the links below to publications that may be helpful.
      ACID ETCHING SURFACE TREATMENT OF FELDSPATHIC, ALUMINA AND ZIRCONIA CERAMICS: A MICROMORPHOLOGICAL SEM ANALYSIS.
      http://moderndentistrymedia.com/may_june2006/zarone2.pdf

      Effect of 37% Phosphoric Acid Etchant on Surface Topography of Zirconia Crowns – An In Vitro Study
      https://aimdrjournal.com/wp-content/uploads/2021/06/DE2_OA_Adi-edit.pdf

      Room-temperature etching of stabilized zirconia
      https://link.springer.com/content/pdf/10.1007/BF00838349.pdf

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  2. What is the etch selectivity of the etchant with respect to aluminum metal? Is product 667447 suitable for use as an alumina etchant?

    1 respuesta
    1. The Ceramic Etchant A has a much higher etching rate for aluminum compared to alumina. Additionally, without an oxidizer, it may leave smut and residue behind. Given the solubility properties of both materials, it is not feasible to selectively etch alumina without significantly faster etching of aluminum.

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