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Sigma-Aldrich

Tris(dimethylamino)silane

packaged for use in deposition systems

Synonyme(s) :

Tris(dimethylamino)silane, (Me2N)3SiH, N,N,N′,N′,N′′, N′′-Hexamethylsilanetriamine, Tris(dimethylamido)silane, N,N,N′,N′,N′′,N′′-Hexamethylsilanetriamine, TDMAS

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About This Item

Formule linéaire :
((CH3)2N)3SiH
Numéro CAS:
15112-89-7
Poids moléculaire :
161.32
Numéro CE :
239-165-0
Numéro MDL:
MFCD00048006
Code UNSPSC :
12352103
ID de substance PubChem :
329766793
Nomenclature NACRES :
NA.23

Niveau de qualité

100

Pureté

≥99.9% (GC)

Forme

liquid

Point d'ébullition

142 °C (lit.)

Pf

−90 °C (lit.)

Densité

0.838 g/mL at 25 °C (lit.)

Chaîne SMILES 

CN(C)[SiH](N(C)C)N(C)C

InChI

1S/C6H19N3Si/c1-7(2)10(8(3)4)9(5)6/h10H,1-6H3

Clé InChI

TWVSWDVJBJKDAA-UHFFFAOYSA-N

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Description générale

Tris(dimethylamino)silane is an organosilicon compound with high volatility and thermal stability, widely used as a vapor deposition precursor to fabricate silicon-containing thin films for various applications, including solar cells, fuel cell catalysts, and semiconductors. The depositions can be carried out at low substrate temperatures (<150). The melting point and vapor pressure of TDMAS is in a suitable working range, thus making it a very good vapor deposition precursor.

Application

Tris(dimethylamino)silane can be used:
  • As a silicon source for deposition of aluminum silicate on TiO2 anodes for dye-sensitized solar cells vis atomic layer deposition method.
  • As a precursor to fabricate functionalized Si reinforced separators for Li-ion batteries.

Pictogrammes

FlameSkull and crossbonesCorrosion
GHS02,GHS06,GHS05

Mention d'avertissement

Danger

Classification des risques

Acute Tox. 3 Dermal - Acute Tox. 3 Inhalation - Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - Water-react 2

Risques supp

EUH029

Code de la classe de stockage

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3

Point d'éclair (°F)

16.0 - 32.0 °F - closed cup

Point d'éclair (°C)

-8.89 - 0.00 °C - closed cup

Certificats d'analyse (COA)

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Boudreau; M.; Boumerzoug; M.; Mascher; P.; Jessop; P. E.
Applied Physics Letters, 63, 3014-3014 (1993)
Hirose; F.; Kinoshita; Y.; Shibuya; S.; et al
Thin Solid Films, 519, 270-270 (2011)
B Ballantyne et al.
Toxicology and industrial health, 5(1), 45-54 (1989-01-01)
The acute handling hazards of tris(dimethylamino)silane [TDMAS] were investigated. The acute male rat peroral LD50 (with 95% confidence limits) was 0.71 (0.51-0.97) ml/kg, and the acute male rabbit percutaneous LD50 was 0.57 (0.35-0.92) ml/kg. The liquid was severely irritating to

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