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Sigma-Aldrich

Pentakis(dimethylamino)tantalum(V)

99.99%

Synonyme(s) :

PDMAT, TADMA, Ta(NMe2)5, Tantalum dimethylamide

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About This Item

Formule linéaire :
Ta(N(CH3)2)5
Numéro CAS:
19824-59-0
Poids moléculaire :
401.33
Numéro MDL:
MFCD01631286
Code UNSPSC :
12352103
ID de substance PubChem :
24873088
Nomenclature NACRES :
NA.23

Niveau de qualité

100

Pureté

99.99%

Forme

solid

Pertinence de la réaction

core: tantalum
reagent type: catalyst

Pf

100 °C (dec.) (lit.)

Chaîne SMILES 

CN(C)[Ta](N(C)C)(N(C)C)(N(C)C)N(C)C

InChI

1S/5C2H6N.Ta/c5*1-3-2;/h5*1-2H3;/q5*-1;+5

Clé InChI

VSLPMIMVDUOYFW-UHFFFAOYSA-N

Description générale

Atomic number of base material: 73 Tantalum

Caractéristiques et avantages

Volatile solid CVD precursor to tantalum nitride (TaN) thin films. Also yields tantalum oxide (Ta2O5) thin films when O2, H2O, NO or H2O2 is present during the deposition process. Ta2O5 thins films show promise as gate dielectric materials in the manufacture of integrated circuits.

Pictogrammes

FlameCorrosion
GHS02,GHS05

Mention d'avertissement

Danger

Mentions de danger

H228,H260,H314

Classification des risques

Eye Dam. 1 - Flam. Sol. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 1

Code de la classe de stockage

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3

Point d'éclair (°F)

Not applicable

Point d'éclair (°C)

Not applicable

Équipement de protection individuelle

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges

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James E Maslar et al.
Applied spectroscopy, 74(10), 1219-1229 (2019-10-17)
A nondispersive infrared gas analyzer was demonstrated for investigating metal alkylamide precursor delivery for microelectronics vapor deposition processes. The nondispersive infrared analyzer was designed to simultaneously measure the partial pressure of pentakis(dimethylamido) tantalum, a metal precursor employed in high volume

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