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Merck

651788

Sigma-Aldrich

Fotolack Entwickler I

Anmeldenzur Ansicht organisationsspezifischer und vertraglich vereinbarter Preise


About This Item

UNSPSC-Code:
12352300
NACRES:
NA.23

Qualitätsniveau

bp

129-138 °C (lit.)

Dichte

0.89 g/mL at 25 °C (lit.)

Lagertemp.

2-8°C

Allgemeine Beschreibung

Available as part of Negative Photoresist kit 654892

Signalwort

Danger

Gefahreneinstufungen

Acute Tox. 4 Dermal - Acute Tox. 4 Inhalation - Aquatic Chronic 3 - Asp. Tox. 1 - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - Repr. 1B - Skin Irrit. 2 - STOT RE 2 Inhalation - STOT SE 3

Zielorgane

Central nervous system,Liver,Kidney, Respiratory system

Lagerklassenschlüssel

3 - Flammable liquids

WGK

WGK 2

Flammpunkt (°F)

78.8 °F - closed cup

Flammpunkt (°C)

26 °C - closed cup

Persönliche Schutzausrüstung

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter


Zulassungslistungen

Zulassungslistungen werden hauptsächlich für chemische Produkte erstellt. Für nicht-chemische Produkte können hier nur begrenzte Angaben gemacht werden. Kein Eintrag bedeutet, dass keine der Komponenten gelistet ist. Es liegt in der Verantwortung des Benutzers, die sichere und legale Verwendung des Produkts zu gewährleisten.

EU REACH SVHC Candidate List

CAS No.

EU REACH Annex XVII (Restriction List)

CAS No.

Hier finden Sie alle aktuellen Versionen:

Analysenzertifikate (COA)

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Protokolle

Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.

Unser Team von Wissenschaftlern verfügt über Erfahrung in allen Forschungsbereichen einschließlich Life Science, Materialwissenschaften, chemischer Synthese, Chromatographie, Analytik und vielen mehr..

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