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Sigma-Aldrich

Negativresist-Entferner I

Anmeldenzur Ansicht organisationsspezifischer und vertraglich vereinbarter Preise
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About This Item

UNSPSC-Code:
12352300
NACRES:
NA.23

Haltbarkeit

1 yr (cool area away from direct sunlight)

pH-Wert

<2 (20 °C)

bp

204-304 °C (lit.)

Dichte

1.00 g/mL at 25 °C (lit.)

Lagertemp.

2-8°C

Verwandte Kategorien

Allgemeine Beschreibung

Available as part of Negative Photoresist kit 654892
Low pH formulation for removal of photoresist cured onto various substrates. Non-corrosive to metals and oxides. Does not contain chlorinated hydrocarbons, chromates, phenol, or phosphates. Performs well at room and elevated temperatures.

Signalwort

Danger

Gefahreneinstufungen

Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 2 - Asp. Tox. 1 - Carc. 2 - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1

Lagerklassenschlüssel

8A - Combustible corrosive hazardous materials

WGK

WGK 3

Flammpunkt (°F)

204.8 °F

Flammpunkt (°C)

96 °C

Analysenzertifikate (COA)

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Protokolle

Negative Photoresist Procedure

Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.

Unser Team von Wissenschaftlern verfügt über Erfahrung in allen Forschungsbereichen einschließlich Life Science, Materialwissenschaften, chemischer Synthese, Chromatographie, Analytik und vielen mehr..

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