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Merck
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Sigma-Aldrich

Dichlor-diisopropylsilan

≥97.0% (GC)

Synonym(e):

Diisopropyl-dichlorsilan

Anmeldenzur Ansicht organisationsspezifischer und vertraglich vereinbarter Preise
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About This Item

Empirische Formel (Hill-System):
C6H14Cl2Si
CAS-Nummer:
7751-38-4
Molekulargewicht:
185.17
Beilstein:
1736244
MDL-Nummer:
MFCD00054895
UNSPSC-Code:
12352001
PubChem Substanz-ID:
329755681
NACRES:
NA.22

Assay

≥97.0% (GC)

Form

liquid

Brechungsindex

n20/D 1.444

bp

66 °C/27 mmHg (lit.)

Dichte

1.026 g/mL at 20 °C (lit.)

SMILES String

CC(C)[Si](Cl)(Cl)C(C)C

InChI

1S/C6H14Cl2Si/c1-5(2)9(7,8)6(3)4/h5-6H,1-4H3

InChIKey

GSENNYNYEKCQGA-UHFFFAOYSA-N

Verwandte Kategorien

Sonstige Hinweise

Protecting group reagent; brings two alcohols in close contact for "tethering technique"

Piktogramme

FlameCorrosion
GHS02,GHS05

Signalwort

Danger

H-Sätze

H226,H314

Gefahreneinstufungen

Flam. Liq. 3 - Skin Corr. 1B

Lagerklassenschlüssel

3 - Flammable liquids

WGK

WGK 3

Flammpunkt (°F)

109.4 °F - closed cup

Flammpunkt (°C)

43 °C - closed cup

Persönliche Schutzausrüstung

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

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C.L. Bradford et al.
Tetrahedron Letters, 36, 4189-4189 (1995)
J.H. Hutchinson et al.
Tetrahedron Letters, 32, 573-573 (1991)
David Gräfe et al.
Nature communications, 9(1), 2788-2788 (2018-07-19)
Existing photoresists for 3D laser lithography that can be removed after development in a subtractive manner typically suffer from harsh cleavage conditions. Here, we report chemoselectively cleavable photoresists for 3D laser lithography based on silane crosslinkers, allowing the targeted degradation

Unser Team von Wissenschaftlern verfügt über Erfahrung in allen Forschungsbereichen einschließlich Life Science, Materialwissenschaften, chemischer Synthese, Chromatographie, Analytik und vielen mehr..

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