Přejít k obsahu
Merck
Všechny fotografie(1)

Key Documents

View All Documentation

469947

Sigma-Aldrich

Tris(dimethylamido)aluminum(III)

Synonyma:

Hexakis(dimethylamido)dialuminum, Tris(dimethylamino)alane dimer

Přihlásitk zobrazení cen stanovených pro organizaci a smluvních cen
Všechny fotografie(1)

About This Item

Lineární vzorec:
Al(N(CH3)2)3
Číslo CAS:
32093-39-3
Molekulová hmotnost:
159.21
MDL number:
MFCD00269811
UNSPSC Code:
12352103
PubChem Substance ID:
24870625
NACRES:
NA.23

form

solid

reaction suitability

core: aluminum

mp

82-84 °C (lit.)

density

0.865 g/mL at 25 °C (lit.)

SMILES string

CN(C)[Al](N(C)C)N(C)C.CN(C)[Al](N(C)C)N(C)C

InChI

1S/6C2H6N.2Al/c6*1-3-2;;/h6*1-2H3;;/q6*-1;2*+3

InChI key

JGZUJELGSMSOID-UHFFFAOYSA-N

Hledáte podobné produkty? Navštivte Průvodce porovnáváním produktů

General description

Atomic number of base material: 13 Aluminum

Application

Tris(dimethylamido)aluminum(III) may be used as a precursor to aluminum nitride (AlN) thin films by organometallic chemical vapor deposition (OMCVD).

pictograms

FlameCorrosion
GHS02,GHS05

signalword

Danger

hcodes

H260,H314

Hazard Classifications

Skin Corr. 1B - Water-react 1

supp_hazards

EUH014

Storage Class

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

wgk_germany

WGK 3

flash_point_f

70.0 °F - closed cup

flash_point_c

21.1 °C - closed cup

ppe

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges

Osvědčení o analýze (COA)

Vyhledejte osvědčení Osvědčení o analýze (COA) zadáním čísla šarže/dávky těchto produktů. Čísla šarže a dávky lze nalézt na štítku produktu za slovy „Lot“ nebo „Batch“.

Již tento produkt vlastníte?

Dokumenty související s produkty, které jste v minulosti zakoupili, byly za účelem usnadnění shromážděny ve vaší Knihovně dokumentů.

Navštívit knihovnu dokumentů

Zákazníci si také prohlíželi

Slide 1 of 1

1 of 1

Bis(trimethylaluminum)-1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane adduct

Sigma-Aldrich

682101

Bis(trimethylaluminum)-1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane adduct

Tris (dimethylamido) aluminum (III): An overlooked atomic layer deposition precursor.
Buttera SC, et al.
Journal of Vacuum Science & Technology. A, Vacuum, Surfaces, And Films, 35(1), 01B128-01B128 (2017)

Sortimentní položky

High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication

Thin film photovoltaic devices have become increasingly important in efficiently harnessing solar energy to meet consumer demand.

Atomic Layer Deposition of Nanomaterials for Li-Ion Batteries, Fuel Cells, and Solar Cells

Nanomaterials are considered a route to the innovations required for large-scale implementation of renewable energy technologies in society to make our life sustainable.

Náš tým vědeckých pracovníků má zkušenosti ve všech oblastech výzkumu, včetně přírodních věd, materiálových věd, chemické syntézy, chromatografie, analytiky a mnoha dalších..

Obraťte se na technický servis.