Autoensamblaje e impresión por contacto
Autoensamblaje molecular
El autoensamblaje molecular (MSA) es el montaje de moléculas sin guía ni gestión desde una fuente externa. El autoensamblaje puede ocurrir espontáneamente en la naturaleza. Un ejemplo de ello es el autoensamblaje de la bicapa lipídica de la membrana en las células. La aplicación precisa y controlada de fuerzas intermoleculares puede conducir a nanoestructuras nuevas y antes inalcanzables.
En el autoensamblaje, la estructura final (deseada) está «codificada» en la forma y las propiedades de las moléculas utilizadas. Las monocapas autoensambladas (SAM) utilizan interacciones intermoleculares relativamente débiles entre ciertos tipos de moléculas orgánicas como la fuerza motriz de montaje, incluida la interacción electrostática entre los polielectrólitos con carga opuesta, la afinidad entre los tioles y las superficies de oro o entre los ácidos fosfónicos y las superficies oxídicas.
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Tioles y superficies de oro
Varias fuerzas impulsan el ensamblaje de los alquiltioles en una superficie de oro. Además de las fuertes interacciones azufre-oro (~45 kcal/mol) que permiten una unión relativamente fuerte de las moléculas formadoras de película a la superficie, las interacciones hidrófobas entre los átomos de carbono y los de hidrógeno en las moléculas de alquiltiol también reducen de manera significativa la energía total de la superficie, en especial cuando la cadena alquilo contiene al menos diez átomos de carbono.
Ofrecemos varios materiales tiol de gran pureza para una amplia variedad de aplicaciones de autoensamblaje, desde la litografía blanda hasta la detección química y biológica, clasificados por el tipo de grupos tiol:
- Alquiltioles (terminados en -CH3)
- Tioles funcionalizados
- Ditioles
- Tioles en anillo
- Tioles protegidos
Ácidos fosfónicos y superficies de óxido
Ofrecemos una selección de materiales fosfatos y fosfonatos para ampliar las opciones de sustrato utilizado para la preparación de monocapas autoensambladas más allá del oro. Nuestras moléculas ácidas polares interactúan con diversas superficies de óxido de metal (por ejemplo, Al2O3, Ta2O5, NBO5, ZrO2 y TiO2) y forman películas con un grado de ordenación similar al de las SAM de alquiltiol sobre oro.
Litografía por nanoimpresión
La litografía para nanoimpresión (NIL) es una técnica para generar microestructuras y nanoestructuras en polímeros duros presionando un patrón rígido que contiene la característica de relieve de superficie en una fina película de polímero termoplástico que luego se calienta cerca de o, más generalmente, por encima de la Tg. Tiene el potencial de producir nanodispositivos con gran rendimiento, no requiere herramientas sofisticadas y permite la replicación a nanoescala para el almacenamiento de datos.
Ofrecemos una gama de materiales de nanoimpresión, por ejemplo, poli(metil metacrilato) (PMMA) y otros polímeros termoplásticos y termoestables (como el polidimetilsiloxano PDMS y el poliftalaldehído) para optimizar la impresión y las etapas de grabado posteriores.
Litografía blanda
En la litografía blanda se utiliza el micromoldeo y el relieve saliente de elastómeros «blandos» para fabricar o reproducir estructuras. En la impresión con microcontacto (mCP), se imprime una monocapa de un material a partir de un sello elastómero hecho de poli(dimetilsiloxano) (PDMS) después de formar contacto conformal entre el sello y el sustrato. Las estructuras de relieve de superficie submicrométrica pueden introducirse fácilmente en el PDMS curando los polímeros contra un patrón preparado mediante litografía. La ventaja de la mCP es la capacidad de modelar superficies químicamente al nivel de submicra. Un sello elastómero se entinta con moléculas pequeñas (tioles o silanos) y se presiona contra un sustrato limpio (obleas de oro o silicio). Cuando el sello está en contacto con la superficie, se transfiere una monocapa de material al sustrato. A continuación, se utiliza un segundo tiol o silano para rellenar el fondo y proporcionar una superficie químicamente modelada.
Ofrecemos una completa selección de materiales de silano, tiol y PDMS para potenciar aquellas de sus aplicaciones que requieren micropatrones y nanopatrones precisos.
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