667447
Ceramic Etchant A
Sinónimos:
Al2O3 Etch, Aluminum Oxide Etchant, GaN Etch, Gallium Nitride Etchant, Si3N4 Etch, Silicon Nitride Etchant
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About This Item
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Aplicación
Useful for fast and controllable etching of silicon nitride (Si3N4), galium nitride (GaN), or aluminum oxide (Al2O3).
Características y beneficios
Etch Rates @ 180 °C:
Aluminum oxide 120 Å/min
Silicon nitride 125 Å/min
Gallium nitride 80 Å/min
Silicon dioxide 1 Å/min
Silicon 1 Å/min
Aluminum oxide 120 Å/min
Silicon nitride 125 Å/min
Gallium nitride 80 Å/min
Silicon dioxide 1 Å/min
Silicon 1 Å/min
Palabra de señalización
Danger
Frases de peligro
Consejos de prudencia
Clasificaciones de peligro
Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Skin Corr. 1B
Código de clase de almacenamiento
8B - Non-combustible corrosive hazardous materials
Clase de riesgo para el agua (WGK)
WGK 1
Punto de inflamabilidad (°F)
Not applicable
Punto de inflamabilidad (°C)
Not applicable
Equipo de protección personal
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
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