Saltar al contenido
Merck
Todas las fotos(1)

Key Documents

View All Documentation

274208

Sigma-Aldrich

Dichlorodiethylsilane

97%

Sinónimos:

Diethyldichlorosilane, Diethyldichlorosilicon

Iniciar sesiónpara Ver la Fijación de precios por contrato y de la organización
Todas las fotos(1)

About This Item

Fórmula lineal:
(C2H5)2SiCl2
Número de CAS:
1719-53-5
Peso molecular:
157.11
Beilstein/REAXYS Number:
605313
EC Number:
217-005-0
MDL number:
MFCD00000493
UNSPSC Code:
12352001
PubChem Substance ID:
24856572
NACRES:
NA.22

assay

97%

form

liquid

refractive index

n20/D 1.43 (lit.)

bp

125-131 °C (lit.)

density

1.05 g/mL at 25 °C (lit.)

storage temp.

2-8°C

SMILES string

CC[Si](Cl)(Cl)CC

InChI

1S/C4H10Cl2Si/c1-3-7(5,6)4-2/h3-4H2,1-2H3

InChI key

BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N

¿Está buscando productos similares? Visita Guía de comparación de productos

signalword

Danger

Hazard Classifications

Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Flam. Liq. 3 - Skin Corr. 1B - STOT SE 3

target_organs

Respiratory system

supp_hazards

EUH014

Storage Class

3 - Flammable liquids

wgk_germany

WGK 1

flash_point_f

79.0 °F

flash_point_c

26.1 °C

ppe

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

Certificados de análisis (COA)

Busque Certificados de análisis (COA) introduciendo el número de lote del producto. Los números de lote se encuentran en la etiqueta del producto después de las palabras «Lot» o «Batch»

¿Ya tiene este producto?

Encuentre la documentación para los productos que ha comprado recientemente en la Biblioteca de documentos.

Visite la Librería de documentos

Peter Bieling et al.
The EMBO journal, 37(1), 102-121 (2017-11-17)
WASP-family proteins are known to promote assembly of branched actin networks by stimulating the filament-nucleating activity of the Arp2/3 complex. Here, we show that WASP-family proteins also function as polymerases that accelerate elongation of uncapped actin filaments. When clustered on
David Gräfe et al.
Nature communications, 9(1), 2788-2788 (2018-07-19)
Existing photoresists for 3D laser lithography that can be removed after development in a subtractive manner typically suffer from harsh cleavage conditions. Here, we report chemoselectively cleavable photoresists for 3D laser lithography based on silane crosslinkers, allowing the targeted degradation

Nuestro equipo de científicos tiene experiencia en todas las áreas de investigación: Ciencias de la vida, Ciencia de los materiales, Síntesis química, Cromatografía, Analítica y muchas otras.

Póngase en contacto con el Servicio técnico