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Sigma-Aldrich

Tetrakis(ethylmethylamido)zirconium(IV)

≥99.99% trace metals basis

Sinonimo/i:

TEMAZ, Tetrakis(ethylmethylamino)zirconium(IV)

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About This Item

Formula condensata:
Zr(NCH3C2H5)4
Numero CAS:
175923-04-3
Peso molecolare:
323.63
Numero MDL:
MFCD03427131
Codice UNSPSC:
12352103
ID PubChem:
24879307
NACRES:
NA.23

Saggio

≥99.99% trace metals basis

Forma fisica

liquid

Impiego in reazioni chimiche

core: zirconium

P. eboll.

81 °C/0.1 mmHg (lit.)

Densità

1.049 g/mL at 25 °C (lit.)

Stringa SMILE

CCN(C)[Zr](N(C)CC)(N(C)CC)N(C)CC

InChI

1S/4C3H8N.Zr/c4*1-3-4-2;/h4*3H2,1-2H3;/q4*-1;+4
SRLSISLWUNZOOB-UHFFFAOYSA-N

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Categorie correlate

Applicazioni

Tetrakis(ethylmethylamido)zirconium(IV) can be used as a precursor for atomic layer deposition of zirconium fluoride. These metal fluorides are applied in the field of catalysis, optical films, and protective coatings for Li-ion battery electrodes.

Accessorio

N° Catalogo
Descrizione
Determinazione del prezzo

Pittogrammi

FlameExclamation mark
GHS02,GHS07

Avvertenze

Danger

Indicazioni di pericolo

H225,H261,H315,H319,H335

Classi di pericolo

Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 2 - Skin Irrit. 2 - STOT SE 3 - Water-react 2

Organi bersaglio

Respiratory system

Codice della classe di stoccaggio

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

Classe di pericolosità dell'acqua (WGK)

WGK 3

Punto d’infiammabilità (°F)

50.0 °F - closed cup

Punto d’infiammabilità (°C)

10 °C - closed cup

Dispositivi di protezione individuale

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter

Certificati d'analisi (COA)

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ZrO2 monolayer as a removable etch stop layer for thermal Al2O3 atomic layer etching using hydrogen fluoride and trimethylaluminum
David R Zywotko, et al.
Chemistry of Materials, 32, 10055-10065 (2020)
Atomic layer deposition of metal fluorides using HF-pyridine as the fluorine precursor
Younghee Lee, et al.
Chemistry of Materials, 28, 2022-2032 (2016)

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