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NIST2133

Phosphorus implant in silicon depth profile standard

NIST® SRM® 2133

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About This Item

Code UNSPSC :
41116107
Nomenclature NACRES :
NA.24

Qualité

certified reference material

Niveau de qualité

100

Conditionnement

pkg of each

Fabricant/nom de marque

NIST®

Application(s)

semiconductor

Format

matrix material

Description générale

The SRM contains a single crystal silicon substrate measuring 1 cm × 1 cm, which is ion-implanted with the isotope 31P at a nominal energy of 100 keV.

SRM 2133_cert

SRM 2133_SDS

Application

The SRM is intended to calibrate the secondary ion response for minor and trace concentrations of phosphorus within a silicon matrix using the secondary ion mass spectrometry (SIMS) method.

Caractéristiques et avantages

  • Available with certificate documenting NIST-certified retained dose of 31P atoms which is obtained through radiochemical neutron activation analysis (RNAA).
  • The NIST certificate is provided with expiration certificate, storage, handling, use, and maintenance instructions.

Autres remarques

Example analytes are listed below as a reference. Please download a current certificate at nist.gov/SRM for current analytes and certified values.
Phosphorus (31P)

Informations légales

NIST is a registered trademark of National Institute of Standards and Technology
SRM is a registered trademark of National Institute of Standards and Technology

Code de la classe de stockage

13 - Non Combustible Solids

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3

Point d'éclair (°F)

Not applicable

Point d'éclair (°C)

Not applicable

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