Accéder au contenu
Merck
Toutes les photos(2)

Documents

697540

Sigma-Aldrich

Triméthyl(méthylcyclopentadiényl)platine(IV)

packaged for use in deposition systems

Synonyme(s) :

MeCpPtMe3

Se connecterpour consulter vos tarifs contractuels et ceux de votre entreprise/organisme
Toutes les photos(2)

About This Item

Formule linéaire :
C5H4CH3Pt(CH3)3
Numéro CAS:
94442-22-5
Poids moléculaire :
319.30
Code UNSPSC :
12352103
Nomenclature NACRES :
NA.23

Niveau de qualité

100

Forme

low-melting solid

Pertinence de la réaction

core: platinum
reagent type: catalyst

Pf

30-31 °C (lit.)

Température de stockage

2-8°C

Chaîne SMILES 

C[Pt](C)C.C[C]1[CH][CH][CH][CH]1

InChI

1S/C6H7.3CH3.Pt/c1-6-4-2-3-5-6;;;;/h2,4H,3H2,1H3;3*1H3;

Clé InChI

AGQKROMSWCHOND-UHFFFAOYSA-N

Vous recherchez des produits similaires ? Visite Guide de comparaison des produits

Description générale

Trimethyl(methylcyclopentadienyl)platinum(IV) pale yellow or off-white crystalline organometallic complex widely used as a chemical vapor deposition/atomic layer deposition precursor to deposit platinum on various substrates.

Application

Trimethyl(methylcyclopentadienyl)platinum(IV) used:
  • As a precursor to prepare Pt nanoparticles. It helps in tuning the particle size for better activity and stability of the Pt catalyst.
  • To fabricate cathodes for solid acid fuel cells with high activity and excellent stability.
  • To prepare triple helical nanowires(THN) for advanced nanophotonics.
  • To fabricate Pt current collectors for electrodes of asymmetric V2O5–SnO2 nanopore battery.
  • As a precursor for synthesis of Platinum catalystwith high loadings of uniform-sized, 1−2 nm Ptnanoparticles on high surface area Al2O3, TiO2, and SrTiO3 supports. The synthesis ofcatalytic nanoparticles via ALD is a compelling technique for creatinginnovative and useful catalysts.
Precursors Packaged for Depositions Systems

Pictogrammes

Skull and crossbonesEnvironment
GHS06,GHS09

Mention d'avertissement

Danger

Mentions de danger

H300 + H310,H317,H400

Classification des risques

Acute Tox. 1 Oral - Acute Tox. 2 Dermal - Aquatic Acute 1 - Skin Sens. 1

Code de la classe de stockage

6.1A - Combustible acute toxic Cat. 1 and 2 / very toxic hazardous materials

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3

Équipement de protection individuelle

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges

Certificats d'analyse (COA)

Recherchez un Certificats d'analyse (COA) en saisissant le numéro de lot du produit. Les numéros de lot figurent sur l'étiquette du produit après les mots "Lot" ou "Batch".

Déjà en possession de ce produit ?

Retrouvez la documentation relative aux produits que vous avez récemment achetés dans la Bibliothèque de documents.

Consulter la Bibliothèque de documents

Genesis and evolution of surface species during Pt atomic layer deposition on oxide supports characterized by in situ XAFS analysis and water- gas shift reaction
Worajit Setthapun, et al.
The Journal of Physical Chemistry C, 114, 9758-9771 (2010)
Platinum atomic layer deposition on metal substrates: A surface chemistry study
Clinton Lien, et al.
Surface Science, 677, 161-166 (2018)
Atomic layer deposition of Pt@CsH2PO4 for the cathodes of solid acid fuel cells
Dae-Kwang Lim, et al.
Electrochimica Acta, 288, 12-19 (2018)
Triple-helical nanowires by tomographic rotatory growth for chiral photonics
Marco Esposito, et al.
Nature Communications, 6, 6484-6484 (2015)
High performance asymmetric V2O5-SnO2 nanopore battery by atomic layer deposition
Chanyuan Liu, et al.
Nanoscale, 9, 11566-11573 (2017)
Afficher tous les articles scientifiques apparentés

Articles

Savannah ALD System for Atomic Layer Deposition

Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.

Savannah ALD System for Atomic Layer Deposition

Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.

Savannah ALD System for Atomic Layer Deposition

Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.

Savannah ALD System for Atomic Layer Deposition

Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.

Afficher tout

Notre équipe de scientifiques dispose d'une expérience dans tous les secteurs de la recherche, notamment en sciences de la vie, science des matériaux, synthèse chimique, chromatographie, analyse et dans de nombreux autres domaines..

Contacter notre Service technique