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Sigma-Aldrich

Ceramic Etchant A

Synonyme(s) :

Al2O3 Etch, Aluminum Oxide Etchant, GaN Etch, Gallium Nitride Etchant, Si3N4 Etch, Silicon Nitride Etchant

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About This Item

Numéro MDL:
MFCD08705343
Code UNSPSC :
12352300
Nomenclature NACRES :
NA.23

Application

Useful for fast and controllable etching of silicon nitride (Si3N4), galium nitride (GaN), or aluminum oxide (Al2O3).

Caractéristiques et avantages

Etch Rates @ 180 °C:
Aluminum oxide 120 Å/min
Silicon nitride 125 Å/min
Gallium nitride 80 Å/min
Silicon dioxide 1 Å/min
Silicon 1 Å/min

Pictogrammes

CorrosionExclamation mark
GHS05,GHS07

Mention d'avertissement

Danger

Mentions de danger

H290,H302,H314

Classification des risques

Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Skin Corr. 1B

Code de la classe de stockage

8B - Non-combustible corrosive hazardous materials

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 1

Point d'éclair (°F)

Not applicable

Point d'éclair (°C)

Not applicable

Équipement de protection individuelle

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

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