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Sigma-Aldrich

Dichlorodiisopropylsilane

≥97.0% (GC)

Synonyme(s) :

Diisopropyldichlorosilane

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About This Item

Formule empirique (notation de Hill):
C6H14Cl2Si
Numéro CAS:
7751-38-4
Poids moléculaire :
185.17
Numéro Beilstein :
1736244
Numéro MDL:
MFCD00054895
Code UNSPSC :
12352001
ID de substance PubChem :
329755681
Nomenclature NACRES :
NA.22

Pureté

≥97.0% (GC)

Forme

liquid

Indice de réfraction

n20/D 1.444

Point d'ébullition

66 °C/27 mmHg (lit.)

Densité

1.026 g/mL at 20 °C (lit.)

Chaîne SMILES 

CC(C)[Si](Cl)(Cl)C(C)C

InChI

1S/C6H14Cl2Si/c1-5(2)9(7,8)6(3)4/h5-6H,1-4H3

Clé InChI

GSENNYNYEKCQGA-UHFFFAOYSA-N

Catégories apparentées

Autres remarques

Protecting group reagent; brings two alcohols in close contact for "tethering technique"

Pictogrammes

FlameCorrosion
GHS02,GHS05

Mention d'avertissement

Danger

Mentions de danger

H226,H314

Classification des risques

Flam. Liq. 3 - Skin Corr. 1B

Code de la classe de stockage

3 - Flammable liquids

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3

Point d'éclair (°F)

109.4 °F - closed cup

Point d'éclair (°C)

43 °C - closed cup

Équipement de protection individuelle

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

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J.H. Hutchinson et al.
Tetrahedron Letters, 32, 573-573 (1991)
C.L. Bradford et al.
Tetrahedron Letters, 36, 4189-4189 (1995)
David Gräfe et al.
Nature communications, 9(1), 2788-2788 (2018-07-19)
Existing photoresists for 3D laser lithography that can be removed after development in a subtractive manner typically suffer from harsh cleavage conditions. Here, we report chemoselectively cleavable photoresists for 3D laser lithography based on silane crosslinkers, allowing the targeted degradation

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