GF86143530
Tantalum
foil, 50mm disks, thickness 0.009mm, 99.9%
Sinônimo(s):
Tantalum, TA000285, Ta
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About This Item
pressão de vapor
<0.01 mmHg ( 537.2 °C)
Ensaio
≥99.9%
forma
foil
temperatura de autoignição
572 °F
fabricante/nome comercial
Goodfellow 861-435-30
resistividade
13.5 μΩ-cm, 20°C
pb
5425 °C (lit.)
pf
2996 °C (lit.)
densidade
16.69 g/cm3 (lit.)
cadeia de caracteres SMILES
[Ta]
InChI
1S/Ta
chave InChI
GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N
Descrição geral
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Informações legais
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The journal of physical chemistry. B, 109(10), 4796-4800 (2006-07-21)
Both monolayer and thick (20 microm) films of dry pGEM-3Zf(-) plasmid DNA deposited on tantalum foil were exposed to Al Kalpha X-rays (1.5 keV) for various times in an ultrahigh vacuum chamber. For monolayer DNA, the damage was induced mainly
Applied optics, 31(22), 4397-4404 (1992-08-01)
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Radiation research, 165(4), 452-459 (2006-04-04)
We determined effective cross sections for production of single-strand breaks (SSBs) in plasmid DNA [pGEM 3Zf(-)] by electrons of 10 eV and energies between 0.1 and 4.7 eV. After purification and lyophilization on a chemically clean tantalum foil, dry plasmid
Tantalum foil cuffs in peripheral nerve surgery.
Surgery, 23(3), 507-514 (1948-03-01)
Tantalum foil pegs.
American journal of ophthalmology, 34(3), 444-444 (1951-03-01)
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