GF78786354
Tantalum
foil, 25x25mm, thickness 0.25mm, annealed, 99.99%
Sinônimo(s):
Tantalum, TA000472, Ta
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About This Item
Fórmula empírica (Notação de Hill):
Ta
Número CAS:
Peso molecular:
180.95
Número MDL:
Código UNSPSC:
12141741
ID de substância PubChem:
NACRES:
NA.23
pressão de vapor
<0.01 mmHg ( 537.2 °C)
Ensaio
99.99%
forma
foil
temperatura de autoignição
572 °F
fabricante/nome comercial
Goodfellow 787-863-54
resistividade
13.5 μΩ-cm, 20°C
tamanho × espessura
25 x 25 mm × 0.25 mm
pb
5425 °C (lit.)
pf
2996 °C (lit.)
densidade
16.69 g/cm3 (lit.)
cadeia de caracteres SMILES
[Ta]
InChI
1S/Ta
chave InChI
GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N
Descrição geral
For updated SDS information please visit www.goodfellow.com.
Informações legais
Product of Goodfellow
Certificados de análise (COA)
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Radmila Panajotovic et al.
Radiation research, 165(4), 452-459 (2006-04-04)
We determined effective cross sections for production of single-strand breaks (SSBs) in plasmid DNA [pGEM 3Zf(-)] by electrons of 10 eV and energies between 0.1 and 4.7 eV. After purification and lyophilization on a chemically clean tantalum foil, dry plasmid
T Y Hung et al.
Applied optics, 31(22), 4397-4404 (1992-08-01)
A simple four-element fused-silica lens is presented that has a focal length of 31.2 mm and a relative aperture of f/1 for use as a focusing lens for deep UV laser processing. The curvature of the lens is designed with
Tantalum foil pegs.
E MAXWELL
American journal of ophthalmology, 34(3), 444-444 (1951-03-01)
J G Sen Gupta
Talanta, 31(12), 1053-1056 (1984-12-01)
A 40-fold increase in sensitivity obtained by using a tantalum foil lining in a pyrolytically-coated graphite furnace permitted determination of low ppm levels of cerium in most silicate rocks. A preliminary preconcentration by oxalate and hydroxide co-precipitations was used before
Zhongli Cai et al.
The journal of physical chemistry. B, 109(10), 4796-4800 (2006-07-21)
Both monolayer and thick (20 microm) films of dry pGEM-3Zf(-) plasmid DNA deposited on tantalum foil were exposed to Al Kalpha X-rays (1.5 keV) for various times in an ultrahigh vacuum chamber. For monolayer DNA, the damage was induced mainly
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