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Sigma-Aldrich

Zinc

sputtering target, diam. × thickness 3.00 in. × 0.125 in., 99.995% trace metals basis

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About This Item

Formule empirique (notation de Hill):
Zn
Numéro CAS:
Poids moléculaire :
65.39
Numéro CE :
Numéro MDL:
Code UNSPSC :
12352103
ID de substance PubChem :
Nomenclature NACRES :
NA.23

Pression de vapeur

1 mmHg ( 487 °C)

Pureté

99.995% trace metals basis

Forme

solid

Résistivité

5.8 μΩ-cm, 20°C

Diam. × épaisseur

3.00 in. × 0.125 in.

Point d'ébullition

907 °C (lit.)

Pf

420 °C (lit.)

Densité

7.133 g/mL at 25 °C (lit.)

Chaîne SMILES 

[Zn]

InChI

1S/Zn

Clé InChI

HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N

Application

Sputtering is a process whereby atoms are ejected from a solid target material due to bombardment of the target by energetic particles. It is commonly used for thin-film deposition, etching and analytical techniques.

Code de la classe de stockage

11 - Combustible Solids

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3


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Dahn, J. R.; Trussler, S.; Hatchard, T. D.; Bonakdarpour, B. et al.
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Studies in rodents indicate that the disruption of P-glycoprotein (P-gp) function increases drug distribution into the developing fetus and organs such as the brain. To simultaneously and serially evaluate the effect of P-gp activity and inhibition on the tissue distribution

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