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Sigma-Aldrich

Titanium

sputtering target, diam. × thickness 2.00 in. × 0.25 in., 99.995% trace metals basis

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About This Item

Formule empirique (notation de Hill):
Ti
Numéro CAS:
7440-32-6
Poids moléculaire :
47.87
Numéro CE :
231-142-3
Numéro MDL:
MFCD00011264
Code UNSPSC :
12352103
ID de substance PubChem :
329767320
Nomenclature NACRES :
NA.23

Pureté

99.995% trace metals basis

Forme

solid

Température d'inflammation spontanée

860 °F

Pertinence de la réaction

core: titanium

Résistivité

42.0 μΩ-cm, 20°C

Diam. × épaisseur

2.00 in. × 0.25 in.

Point d'ébullition

3287 °C (lit.)

Pf

1660 °C (lit.)

Densité

4.5 g/mL at 25 °C (lit.)

Chaîne SMILES 

[Ti]

InChI

1S/Ti

Clé InChI

RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N

Catégories apparentées

Application

Sputtering is a process whereby atoms are ejected from a solid target material due to bombardment of the target by energetic particles. The extreme miniaturization of components in the semiconductor and electronics industry requires high purity sputtering targets for thin film deposition.

Code de la classe de stockage

11 - Combustible Solids

Classe de danger pour l'eau (WGK)

nwg

Point d'éclair (°F)

Not applicable

Point d'éclair (°C)

Not applicable

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Kostantinidis, S.; et al.
The European Physical Journal - Applied Physics, 56, 24002/1-24002/1 (2011)
Helmersson; U.; et al.
Thin Solid Films, 513, 1-1 (2006)
A Kurbad et al.
International journal of computerized dentistry, 16(2), 125-141 (2013-08-13)
This article presents two novel options for lithium-disilicate restorations supported by single-tooth implants. By using a Ti-Base connector, hybrid abutments and hybrid abutment crowns can be fabricated for different implant systems. The latter option in particular is an interesting new
J H Kim et al.
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Nanocytalline TiN films were deposited on non-alkali glass and Al substrates by reactive DC magnetron sputtering (DCMS) with an electromagnetic field system (EMF). The microstructure and corrosion resistance of the TiN-coated Al substrates were estimated by X-ray diffraction (XRD), scanning
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Journal of nanoscience and nanotechnology, 13(8), 5807-5810 (2013-07-26)
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