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Über diesen Artikel
Quality Segment
assay
99.9% trace metals basis
form
liquid
reaction suitability
core: tin
bp
110 °C/0.1 mmHg
SMILES string
CC(=O)\C=C(\C)O[SnH2]O\C(C)=C/C(C)=O
InChI
1S/2C5H8O2.Sn/c2*1-4(6)3-5(2)7;/h2*3,6H,1-2H3;/q;;+2/p-2/b2*4-3-;
InChI key
XDRPDDZWXGILRT-FDGPNNRMSA-L
Application
- Thin film deposition by atomic layer deposition (ALD)
- Atomic layer etching.
- For use in transistors and other integrated circuit components.
signalword
Warning
hcodes
Hazard Classifications
Acute Tox. 4 Oral - Eye Irrit. 2 - Skin Irrit. 2 - STOT SE 3
target_organs
Respiratory system
Lagerklasse
10 - Combustible liquids
wgk
WGK 3
flash_point_f
Not applicable
flash_point_c
Not applicable
ppe
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter
Zulassungslistungen
Zulassungslistungen werden hauptsächlich für chemische Produkte erstellt. Für nicht-chemische Produkte können hier nur begrenzte Angaben gemacht werden. Kein Eintrag bedeutet, dass keine der Komponenten gelistet ist. Es liegt in der Verantwortung des Benutzers, die sichere und legale Verwendung des Produkts zu gewährleisten.
16009-86-2
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