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化驗
≥98.5%
≥99.999% trace metals basis
形狀
liquid
折射率
n20/D 1.387 (lit.)
bp
134 °C (lit.)
mp
−69 °C (lit.)
密度
0.986 g/mL at 25 °C (lit.)
儲存溫度
2-8°C
SMILES 字串
C[SiH]1O[SiH](C)O[SiH](C)O[SiH](C)O1
InChI
1S/C4H16O4Si4/c1-9-5-10(2)7-12(4)8-11(3)6-9/h9-12H,1-4H3
InChI 密鑰
BQYPERTZJDZBIR-UHFFFAOYSA-N
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一般說明
特點和優勢
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文章
atomic layer deposition (ALD), microelectronics, Mo:Al2O3 films, nanocomposite coating, photovoltaics, semiconductor devices, W:Al2O3 films, composite films, layer-by-layer
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